[發(fā)明專利]光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置及其方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610875826.1
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN107153902A
• 公開（公告）日: 2017-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金種佑;樸真用;李太圭
• 申請（專利權(quán)）人: 東友精細(xì)化工有限公司
• 主分類號(hào): G06Q10/06
• 分類號(hào): G06Q10/06;G06K17/00;G01N21/88
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11291
• 代理人: 黃志華,李欣

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置及其方法，更詳細(xì)而言，涉及將在按各工序檢測到的缺陷信息在光學(xué)薄膜上進(jìn)行條形碼標(biāo)記，并對整體工序發(fā)現(xiàn)的缺陷信息進(jìn)行綜合管理的光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置及其方法。

背景技術(shù)

最近，隨著光學(xué)薄膜制造裝置的集成度的增加，就連以往未視作較大問題的微細(xì)的缺陷也會(huì)引起光學(xué)薄膜制造裝置的動(dòng)作缺陷，對于光學(xué)薄膜制造裝置的可靠性也會(huì)帶來致命的不良影響。

因此，在進(jìn)行用于制造光學(xué)薄膜的單位工序之前或之后，檢查及測定表面上的缺陷。

因此，要求能夠準(zhǔn)確地檢查缺陷的缺陷檢查裝置的導(dǎo)入，對于檢查裝置的微細(xì)的控制技術(shù)會(huì)左右光學(xué)薄膜制造裝置的性能。

通常，光學(xué)薄膜制造裝置產(chǎn)生的缺陷通過電子顯微鏡或光學(xué)顯微鏡能夠直接確認(rèn)。通過這樣直接確認(rèn)缺陷，能夠獲知檢測到的缺陷的真?zhèn)巍?/p>

然而，在利用一個(gè)工序生產(chǎn)了光學(xué)薄膜之后向下一工序移動(dòng)而開展接合及涂層作業(yè)的情況下，根據(jù)投入方向來變更該光學(xué)薄膜的起點(diǎn)及左右方向。通過這樣的方向的變更，在各工序中檢測到的缺陷數(shù)據(jù)上下或左右顛倒，難以準(zhǔn)確地掌握整體工序產(chǎn)生的缺陷的位置。

與之相關(guān)聯(lián)，韓國公開專利第2009-0078638號(hào)公開了“光學(xué)薄膜檢查裝置”。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的問題

本發(fā)明為了解決上述的問題點(diǎn)而作出，目的在于提供一種一次工序的缺陷管理機(jī)具備當(dāng)檢測到光學(xué)薄膜的缺陷時(shí)在光學(xué)薄膜上標(biāo)記包含與該缺陷相關(guān)的信息的條形碼的條形碼標(biāo)記機(jī)的光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置及其方法。

另外，本發(fā)明目的在于提供一種二次工序的缺陷管理機(jī)具備讀取在一次工序中標(biāo)記于光學(xué)薄膜上的條形碼的條形碼讀取機(jī)的光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置及其方法。

此外，本發(fā)明目的在于提供一種基于從一次工序的缺陷管理機(jī)輸入的缺陷信息和從二次工序的缺陷管理機(jī)輸入的缺陷信息，對整體工序的缺陷信息進(jìn)行綜合管理的光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置及其方法。

用于解決課題的方案

用于實(shí)現(xiàn)上述的目的的本發(fā)明的光學(xué)薄膜的缺陷信息綜合管理裝置包括：缺陷信息收集部，其收集從一次工序的缺陷管理機(jī)及二次工序的缺陷管理機(jī)傳送的對于光學(xué)薄膜的缺陷信息；缺陷信息匹配部，其使一次工序的缺陷信息與二次工序的缺陷信息匹配；缺陷檢測判斷部，其基于匹配的結(jié)果，以二次工序的缺陷信息為基準(zhǔn)，將一次工序的缺陷信息進(jìn)行比較來判斷相同缺陷的檢測的有無；缺陷信息修正部，其在檢測到相同缺陷的情況下，算出一次工序及二次工序中的該缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差來修正一次工序的缺陷信息；及缺陷信息匯總部，其對修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息進(jìn)行匯總。

另外，其中，所述一次工序的缺陷管理機(jī)在一次工序中檢測光學(xué)薄膜的缺陷，并收集與該缺陷相關(guān)的缺陷信息向所述缺陷信息收集部傳送，所述二次工序的缺陷管理機(jī)在二次工序中檢測光學(xué)薄膜的缺陷，并收集與該缺陷相關(guān)的缺陷信息向所述缺陷信息收集部傳送。

另外，其中，所述一次工序的缺陷管理機(jī)還包括在檢測到缺陷的位置進(jìn)行條形碼標(biāo)記的條形碼標(biāo)記機(jī)，從所述二次工序的缺陷管理機(jī)傳送的缺陷信息包括由所述一次工序的缺陷管理機(jī)進(jìn)行了條形碼標(biāo)記的條形碼信息。

另外，其中，所述缺陷信息收集部收集包括索引、缺陷的位置坐標(biāo)(X軸、Y軸)、大小及強(qiáng)度中的至少任一個(gè)信息的缺陷信息。

另外，其中，在對于所述光學(xué)薄膜的缺陷信息包括索引的情況下，所述索引向由所述一次工序的缺陷管理機(jī)檢測的各個(gè)缺陷賦予，在由所述二次工序的缺陷管理機(jī)檢測的各個(gè)缺陷中的檢測到的缺陷的位置坐標(biāo)被賦予了通過一次工序的缺陷管理機(jī)標(biāo)記的條形碼信息的情況下，賦予與通過一次工序的缺陷管理機(jī)賦予的索引值相同的值。

另外，其中，所述缺陷檢測判斷部在所述索引相同的缺陷的情況下，判斷為相同缺陷，或者在對于所述光學(xué)薄膜的缺陷信息中的至少兩個(gè)以上的信息一致的情況下，判斷為相同缺陷。

另外，其中，在通過所述缺陷檢測判斷部未檢測到相同缺陷的情況下，所述缺陷信息匯總部不進(jìn)行另外的修正而將一次工序的缺陷信息與二次工序的缺陷信息匯總。

另外，其中，包括基于所述匯總的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息進(jìn)行監(jiān)控的綜合管理部。