[發明專利]利用正電子發射斷層成像系統進行有源模體定位方法在審
| 申請號： | 201610875144.0 | 申請日： | 2016-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN106333702A | 公開（公告）日： | 2017-01-18 |
| 發明（設計）人： | 鄧子林;樊馨 | 申請（專利權）人： | 上海聯影醫療科技有限公司 |
| 主分類號： | A61B6/03 | 分類號： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 正電子 發射 斷層 成像 系統 進行 有源 定位 方法 | ||
【權利要求書】：
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