[發(fā)明專利]定影構(gòu)件、定影設(shè)備、圖像形成設(shè)備以及定影構(gòu)件的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610872759.8
• 申請(qǐng)日: 2016-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN107065479B
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 前田松崇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03G15/20
• 分類號(hào): G03G15/20
• 代理公司: 11398 北京魏?jiǎn)W(xué)律師事務(wù)所
• 代理人: 魏?jiǎn)W(xué)

1.一種定影構(gòu)件，其特征在于，包括含有聚四氟乙烯PTFE和與PTFE相比熔點(diǎn)較低的氟樹脂的表面層，

其中在通過(guò)將所述表面層的樣品用差示掃描熱量計(jì)DSC以20℃/分鐘的升溫速度加熱得到的DSC吸熱曲線中，

具有在330℃以上且340℃以下的溫度范圍內(nèi)具有峰頂?shù)奈鼰岱?和在與所述吸熱峰1相比較低的溫度范圍內(nèi)具有峰頂?shù)奈鼰岱?，并且

基于所述吸熱峰1的熔解熱量與基于所述吸熱峰2的熔解熱量的總和ΔH為40J/g以上且55J/g以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影構(gòu)件，其中所述吸熱峰1源自所述PTFE。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影構(gòu)件，其中所述總和ΔH為43J/g以上且55J/g以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的定影構(gòu)件，其中與PTFE相比熔點(diǎn)較低的樹脂是四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物PFA。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的定影構(gòu)件，其中所述吸熱峰2的峰頂溫度是300℃以上且315℃以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影構(gòu)件，其中所述定影構(gòu)件依次包括基材、彈性層和所述表面層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的定影構(gòu)件，其中所述基材為環(huán)形帶形式，并且所述彈性層和所述表面層依次配置在所述基材的外周面上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定影構(gòu)件，其中所述表面層與所述彈性層直接接觸。

9.一種定影設(shè)備，其特征在于，包括定影構(gòu)件和面對(duì)所述定影構(gòu)件配置的加壓構(gòu)件，其中所述定影構(gòu)件是根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的定影構(gòu)件。

10.一種圖像形成設(shè)備，其特征在于，包括用于將未定影的調(diào)色劑圖像定影在記錄材料上的定影單元，其中所述定影單元包括根據(jù)權(quán)利要求9所述的定影設(shè)備。

11.一種定影構(gòu)件的制造方法，其特征在于，所述定影構(gòu)件包括彈性層和表面層，所述表面層含有聚四氟乙烯PTFE和熔點(diǎn)為315℃以下的氟樹脂，所述方法包括：

在所述彈性層上形成表面層形成用涂料的涂膜，所述表面層形成用涂料以質(zhì)量比40:60至60:40的混合比含有熔點(diǎn)為330℃以上且340℃以下的PTFE和熔點(diǎn)為315℃以下的氟樹脂；和

將所述涂膜在315℃以上且小于所述PTFE的熔點(diǎn)的溫度下加熱，從而形成所述表面層。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的定影構(gòu)件的制造方法，其中所述涂膜的加熱溫度是315℃以上且小于330℃的溫度。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的定影構(gòu)件的制造方法，其中與PTFE相比熔點(diǎn)較低的樹脂是四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物PFA。