[發明專利]一種通過磁控濺射直流共濺射制備Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法

有效

• 申請號: 201610871554.8
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN107881475B
• 公開（公告）日: 2019-11-01
• 發明（設計）人: 馬勝燦;劉凱;張林;鐘震晨;鐘明龍;江慶政
• 申請（專利權）人: 江西理工大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/14
• 代理公司: 西安銘澤知識產權代理事務所(普通合伙) 61223
• 代理人: 李振瑞

1.一種通過磁控濺射共濺射制備Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

(一)選取靶材：按化學計量比選取NiMnTi合金靶材和Co單質靶材進行共濺射，靶材的直徑都是60mm，其中合金靶材的厚度為3mm，Co單質靶材的厚度為1～2mm；

(二)基底加熱：將選好的合金靶材和Co單質靶材放在濺射室的濺射靶之上固定好，關閉腔蓋抽真空到10^-4Pa以下，加熱基底，加熱溫度為200℃～700℃；

(三)濺射室壓強調整：充入氬氣，通過調整流量儀和閘板閥控制濺射室內壓強范圍為0.25Pa～2.5Pa；

(四)直流共濺射：合金靶的濺射功率為30W～70W，單質靶濺射功率為5W～30W，濺射時間0.5h～2.5h。

2.按照權利要求1所述通過磁控濺射共濺射制備Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法，其特征在于：所述的靶材純度超過99.95％，其中NiMnTi合金靶材中各成分的原子比為：Ni 25～45，Mn 25～45，Ti 5～25。

3.按照權利要求1所述通過磁控濺射共濺射制備Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法，其特征在于：步驟(二)進行基底加熱前先調整加熱電流旋鈕至3～4A預熱4～6分鐘，加大電流到5～8A，具體電流視所選溫度調整，使溫度迅速上升到指定溫度。

4.按照權利要求1所述通過磁控濺射共濺射制備Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法，其特征在于：步驟(三)所述濺射室壓強調整是先稍微關緊閘板閥，但不關到底，打開氬氣瓶總開關，調整壓力示數到0.375MPa，打開氬氣進氣閥，調節流量儀為24，然后通過旋轉閘板閥調節濺射室內壓強到所需壓強。

5.按照權利要求1所述通過磁控濺射共濺射制備Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法，其特征在于：步驟(四)所述直流共濺射是在濺射室內壓強和溫度都穩定后調整濺射靶的功率旋鈕，使合金靶和單質靶同時起輝進行共濺射，此時只打開靶材擋板而不打開基底擋板，預濺射10～15min，然后打開基底擋板開始沉積薄膜。