[發明專利]等離子水下切割裝置

在審

• 申請號: 201610871240.8
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN107876947A
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: 任海強;李昆;張軍;鄧航海;張志猛;石雙音
• 申請（專利權）人: 天津沃盾耐磨材料有限公司
• 主分類號: B23K10/00
• 分類號: B23K10/00
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司11508
• 代理人: 郭麗

1.一種等離子水下切割裝置，包括水池(1)、架設在水池(1)上且與水池(1)滑動連接的龍門架(2)、設置在水池(1)內的氣脹排水裝置、設置在氣脹排水裝置上方的集屑板(6)、固設在水池(1)內且位于集屑板(6)上方的工作平臺(5)以及滑動連接在龍門架(2)上的等離子射槍(3)，其特征在于：工作平臺(5)包括固接在水池(1)內的多個互相平行的格柵架(51)以及多個格柵板(52)，格柵板(52)下表面開有卡槽(53)，格柵板(52)架設在格柵架(51)上，格柵架(51)卡接在卡槽(53)內，各格柵架(51)的上表面等高均平行于水平面且高于格柵架(51)的上表面。

2.根據權利要求1所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：每個格柵板(52)上的卡槽(53)設有兩個，相鄰格柵架(51)的間距相同且與格柵板(52)上兩個卡槽(53)的間距一致，格柵板(52)架設在相鄰的兩個格柵架(51)之間。

3.根據權利要求2所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：格柵板(52)交錯排布。

4.根據權利要求1所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：氣脹排水裝置包括固設在水池(1)底部的氣囊(4)、氣泵(42)、連通氣囊(4)與氣泵(42)的充氣管(43)以及連通氣囊(4)與大氣的出氣管(44)，充氣管(43)上設有單向閥(46)，出氣管(44)上設有截斷閥。

5.根據權利要求4所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：用排水箱(41)配合水面形成的空腔代替氣囊(4)，排水箱(41)下端敞開且固接在水池(1)底部，排水箱(41)與水池(1)底部之間開有排水通道(47)，水池(1)中的水淹沒排水通道(47)。

6.根據權利要求1所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：集屑板(6)上表面設置為坡面，集屑板(6)上可拆卸固定連接有集屑網(7)，集屑網(7)設置在所述坡面最低的一端。

7.根據權利要求6所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：除位于坡面最低的一端的邊緣之外，集屑板(6)上表面的邊緣設有凸出坡面的凸棱(61)。

8.根據權利要求6所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：集屑板(6)的坡面上開有凹槽(62)，格柵架(51)底端插接在凹槽(62)內。

9.根據權利要求8所述的等離子水下切割裝置，其特征在于：凹槽(62)的長度方向沿坡面坡向設置，集屑板(6)垂直于其長度方向的端面被凹槽(62)貫穿。