[發(fā)明專利]一種移動設(shè)備的金屬殼及其制備方法、移動設(shè)備

有效

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• 申請日: 2016-09-28
• 公開（公告）號: CN107872936B
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 施文明;呂旺春;王永祥;黃開文
• 申請（專利權(quán)）人: 華為機(jī)器有限公司
• 主分類號: H05K5/04
• 分類號: H05K5/04;H04M1/02
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 馮艷蓮

1.一種移動設(shè)備的金屬殼，其特征在于，包括殼體，所述殼體上設(shè)有至少一條縫隙，所述至少一條縫隙將所述殼體至少分成電絕緣的兩部分；每條縫隙內(nèi)填充有絕緣物；還包括一層附著在所述殼體表面的絕緣膜；

還包括位于所述殼體表面的凹槽，所述凹槽的寬度大于所述至少一條縫隙中每一條縫隙的寬度，所述至少一條縫隙設(shè)置在所述凹槽的底壁上，所述凹槽內(nèi)還設(shè)有一層覆蓋所述凹槽底壁的反光膜；所述絕緣膜還覆蓋所述反光膜；

還包括一層固定在所述殼體內(nèi)腔的塑膠補(bǔ)強(qiáng)層。

2.如權(quán)利要求1所述的移動設(shè)備的金屬殼，其特征在于，所述絕緣膜為金屬氧化物膜。

3.如權(quán)利要求1所述的移動設(shè)備的金屬殼，其特征在于，所述每條縫隙的寬度位于0.01～2.0mm的范圍之內(nèi)。

4.如權(quán)利要求1所述的移動設(shè)備的金屬殼，其特征在于，所述絕緣膜的厚度位于0.003mm～0.10mm的范圍之內(nèi)。

5.如權(quán)利要求1所述的移動設(shè)備的金屬殼，其特征在于，所述反光膜為仿金屬涂層。

6.如權(quán)利要求1所述的移動設(shè)備的金屬殼，其特征在于，所述反光膜由銦、錫或銦錫合金沉積制成。

7.一種如權(quán)利要求1所述的移動設(shè)備的金屬殼的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

制備殼體；

在所述殼體內(nèi)腔形成一層塑膠補(bǔ)強(qiáng)層；

在所述殼體表面開設(shè)凹槽，在所述殼體上切割至少一條縫隙，所述凹槽的寬度大于所述至少一條縫隙中每一條縫隙的寬度，所述至少一條縫隙設(shè)置在所述凹槽的底壁上，且所述至少一條縫隙將所述殼體至少分成電絕緣的兩部分；

在所述每條縫隙內(nèi)填充絕緣物；

在所述凹槽內(nèi)鋪設(shè)一層覆蓋所述凹槽底壁的反光膜；

在所述殼體表面形成一層絕緣膜，所述絕緣膜還覆蓋所述反光膜。

8.如權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在所述殼體表面形成一層絕緣膜具體為：

在所述殼體表面形成一層金屬膜；

通過陽極氧化將所述金屬膜轉(zhuǎn)化成金屬氧化物膜。

9.如權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在所述殼體表面形成一層絕緣膜具體為：

在所述凹槽內(nèi)沉積與所述殼體材料一致的填充物，且所述填充物充滿所述凹槽內(nèi)腔；

對所述殼體進(jìn)行陽極氧化處理，在所述殼體表面形成一層金屬氧化物膜。

10.一種移動設(shè)備，其特征在于，包括設(shè)備本體以及與所述設(shè)備本體固定連接的如權(quán)利要求1～6任一項(xiàng)所述的金屬殼，還包括設(shè)置在所述設(shè)備本體上的天線，其中，將所述金屬殼中至少電絕緣的兩部分中的至少一部分作為所述天線的輻射單元。