[發明專利]低聚琥珀磺酸鹽表面活性劑及其制備方法有效
| 申請號： | 201610866585.4 | 申請日： | 2016-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN106633090B | 公開（公告）日： | 2020-07-31 |
| 發明（設計）人： | 張楠;王楊;張城 | 申請（專利權）人： | 北京化藝科貿有限公司 |
| 主分類號： | C08G83/00 | 分類號： | C08G83/00;C08G63/52;C08G63/91 |
| 代理公司： | 北京市中倫律師事務所 11410 | 代理人： | 石寶忠 |
| 地址： | 100070 北京市西*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 琥珀 磺酸鹽 表面活性劑 及其 制備 方法 | ||
1.低聚琥珀磺酸鹽表面活性劑，具有如式I或式II所示的通式：
其中，EO：CH2CH2O PO：R1為C2～C22直鏈或支鏈的飽和烴基；R2、R3、R4分別為C2～C22直鏈或支鏈的飽和烴基，其中，R3和R4相同或不同；R7、R8為H或C1～C18直鏈或支鏈的飽和烴基；所述式I中分子中間連接基團為二元酸或酸酐和二元醇縮合聚合產物；n＝5～50，a＝2～100，b＝0～100，均為整數；仲胺醚與馬來酸酐單酯化所得產物作為所述式I的兩端；M1為選自Li+、Na+、K+、NH4+中的一種或幾種。
2.根據權利要求1所述的低聚琥珀磺酸鹽表面活性劑，其中，所述R1為C2～C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R2為C2～C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R3為C4～C13直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R4為C4～C13直鏈或支鏈的飽和烴基；a為2～50中的任一整數，b為0～20中的任一整數。
3.根據權利要求1所述的低聚琥珀磺酸鹽表面活性劑，其中，
所述R1為C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R2為C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R3為C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R4為C4直鏈或支鏈的飽和烴基，a為2，b為10；或者
所述R1為C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R2為C2直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R3為C8直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R4為C8直鏈或支鏈的飽和烴基，a為5，b為10；或者
所述R1為C2直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R2為C2直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R3為C12直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R4為C12直鏈或支鏈的飽和烴基，a為5，b為0；或者
所述R1為C4直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R2為C2直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R3為C13直鏈或支鏈的飽和烴基，所述R4為C13直鏈或支鏈的飽和烴基，a為50，b為20。
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