[發明專利]一種環形拋光機有效
| 申請號： | 201610856602.6 | 申請日： | 2016-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN106392820B | 公開（公告）日： | 2019-05-17 |
| 發明（設計）人： | 焦翔;朱健強;樊全堂;譚小紅 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | B24B13/01 | 分類號： | B24B13/01 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 張澤純;張寧展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 拋光盤 環形拋光機 拋光 拋光機 材料流動性 尺寸校正 傳統環形 降低設備 拋光效率 驅動電機 使用壽命 限位滾輪 新型環形 工件環 校正板 轉臺 開槽 溫升 運轉 | ||
1.一種環形拋光機，包括轉臺(1)、拋光盤(2)、限位滾輪機構(3)和工件環(4)，所述的拋光盤(2)上還設有窄槽，其特征在于，避免校正板的使用，所述的工件環(4)的內徑小于拋光盤(2)的環帶寬度，外徑大于拋光盤(2)的環帶寬度，所述的窄槽將拋光盤的盤面分成多個小單元，每個小單元的面積變化趨勢是沿拋光盤(2)的半徑從中心向邊緣由小變大再變小。
2.一種環形拋光機，包括轉臺(1)、拋光盤(2)、限位滾輪機構(3)和工件環(4)，所述的拋光盤(2)上還設有窄槽，其特征在于，避免校正板的使用，所述的工件環(4)的內徑小于拋光盤(2)的環帶寬度，外徑大于拋光盤(2)的環帶寬度，所述的窄槽將拋光盤的盤面分成多個小單元，每個小單元的面積變化趨勢是沿拋光盤(2)的半徑從中心向邊緣由大變小。
3.一種環形拋光機，包括轉臺(1)、拋光盤(2)、限位滾輪機構(3)和工件環(4)，所述的拋光盤(2)上還設有窄槽，其特征在于，避免校正板的使用，所述的工件環(4)的內徑小于拋光盤(2)的環帶寬度，外徑大于拋光盤(2)的環帶寬度，所述的窄槽將拋光盤的盤面分成多個小單元，該窄槽的深度變化趨勢是沿拋光盤(2)的半徑從中心向邊緣由深變淺，再變深。
4.一種環形拋光機，包括轉臺(1)、拋光盤(2)、限位滾輪機構(3)和工件環(4)，所述的拋光盤(2)上還設有窄槽，其特征在于，避免校正板的使用，所述的工件環(4)的內徑小于拋光盤(2)的環帶寬度，外徑大于拋光盤(2)的環帶寬度，所述的窄槽將拋光盤的盤面分成多個小單元，該窄槽的深度變化趨勢是沿拋光盤(2)的半徑從中心向邊緣由淺變深。
5.一種環形拋光機，包括轉臺(1)、拋光盤(2)、限位滾輪機構(3)和工件環(4)，所述的拋光盤(2)上還設有窄槽，其特征在于，避免校正板的使用，所述的工件環(4)的內徑小于拋光盤(2)的環帶寬度，外徑大于拋光盤(2)的環帶寬度，所述的拋光盤(2)本身材料的流動能力沿拋光盤(2)的半徑從中心向邊緣由大變小再變大。
6.一種環形拋光機，包括轉臺(1)、拋光盤(2)、限位滾輪機構(3)和工件環(4)，所述的拋光盤(2)上還設有窄槽，其特征在于，避免校正板的使用，所述的工件環(4)的內徑小于拋光盤(2)的環帶寬度，外徑大于拋光盤(2)的環帶寬度，所述的拋光盤(2)本身材料的流動能力沿拋光盤(2)的半徑從中心向邊緣由小變大。
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