[發明專利]碳化硅基板的制造方法有效
| 申請號: | 201610853198.7 | 申請日: | 2012-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN107059135B | 公開(公告)日: | 2019-08-13 |
| 發明(設計)人: | 沖田恭子 | 申請(專利權)人: | 住友電氣工業株式會社 |
| 主分類號: | C30B33/06 | 分類號: | C30B33/06;C30B33/00;C30B29/36;B28D5/04 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 王偉;安翔 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 碳化硅 制造 方法 | ||
1.一種碳化硅基板的制造方法,包括如下步驟:
制備單結晶碳化硅的結晶(1);
將所述結晶(1)設置成柱狀,以使得所述結晶(1)的側表面的一部分由支撐基部(2)支撐;以及
通過切割所述結晶(1)來獲得基板(3),
在所述獲得基板(3)的步驟中,在線(9)沿著所述結晶(1)的直徑方向的行進方向行進的同時,所述線(9)沿著與所述行進方向相垂直的切割方向移動,并且在如下的所述切割方向上進行切割:所述切割方向相對于所述結晶(1)的<11-20>方向或<1-100>方向所形成的角度在{0001}面上的正投影中是15°±5°,并且在所述獲得基板(3)的步驟中,所述結晶(1)被切割為:使得所述基板(3)的直徑與厚度的比值不小于100。
2.根據權利要求1所述的碳化硅基板的制造方法,其中,在所述獲得基板(3)的步驟中,在如下的所述切割方向上進行切割:所述切割方向相對于所述結晶(1)的<11-20>方向或<1-100>方向形成的角度在{0001}面上的正投影中是15°±2°。
3.根據權利要求1所述的碳化硅基板的制造方法,其中,所述結晶(1)沿<0001>方向生長。
4.根據權利要求2所述的碳化硅基板的制造方法,其中,所述結晶(1)沿<0001>方向生長。
5.根據權利要求1至4中的任一項所述的碳化硅基板的制造方法,其中,所述結晶(1)具有不小于2英寸的直徑。
6.根據權利要求1至4中的任一項所述的碳化硅基板的制造方法,其中,在所述獲得基板(3)的步驟中,通過線切割來切割所述結晶(1)。
7.根據權利要求5所述的碳化硅基板的制造方法,其中,在所述獲得基板(3)的步驟中,通過線切割來切割所述結晶(1)。
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