[發(fā)明專利]顯影處理方法和顯影處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610851529.3
• 申請日: 2016-09-26
• 公開（公告）號(hào): CN107024839B
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 久保田稔
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30
• 代理公司: 北京尚誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種顯影處理方法，其對基板上供給顯影液，使將規(guī)定的圖案曝光了的基板上的抗蝕劑膜顯影，所述顯影處理方法的特征在于，包括：

稀釋顯影液的積液形成步驟，對基板的中央部供給純水而形成純水積液，接著，一邊使噴嘴的觸液面接觸所述純水積液，并在將所述噴嘴的觸液面與基板表面的抗蝕劑膜表面之間的距離維持在0.5mm～3.0mm的狀態(tài)下，從該噴嘴對純水積液供給顯影液，一邊使該噴嘴以通過基板中心的方式在徑向上移動(dòng)，從而在基板的中央部形成稀釋顯影液的積液，并且，通過所述噴嘴的移動(dòng)來排出由所述噴嘴的觸液面與所述抗蝕劑膜的表面之間的所述稀釋顯影液產(chǎn)生的反應(yīng)生成物；

之后使基板旋轉(zhuǎn)而使所述稀釋顯影液的積液在基板整個(gè)面上擴(kuò)散的擴(kuò)散步驟；和

之后對基板供給顯影液而使基板顯影的顯影步驟，

所述稀釋顯影液的積液形成步驟中的所述噴嘴的移動(dòng)開始地點(diǎn)是從基板中心偏心10mm～20mm的位置，

所述稀釋顯影液的積液形成步驟中的所述噴嘴的移動(dòng)結(jié)束地點(diǎn)是與所述移動(dòng)開始地點(diǎn)不同的從基板中心偏心10mm～20mm的位置。

2.一種顯影處理方法，其對基板上供給顯影液，使將規(guī)定的圖案曝光了的基板上的抗蝕劑膜顯影，所述顯影處理方法的特征在于，包括：

稀釋顯影液的積液形成步驟，從噴嘴將稀釋顯影液供給到基板，且一邊使噴嘴的觸液面與基板上的稀釋顯影液接觸，并將所述噴嘴的觸液面與基板表面的抗蝕劑膜表面之間的距離維持在0.5mm～3.0mm，一邊使該噴嘴以通過基板中心的方式在徑向上移動(dòng)，從而在基板的中央部形成稀釋顯影液的積液，并且，通過所述噴嘴的移動(dòng)來排出由所述噴嘴的觸液面與所述抗蝕劑膜的表面之間的所述稀釋顯影液產(chǎn)生的反應(yīng)生成物；

之后使基板旋轉(zhuǎn)而使所述稀釋顯影液的積液在基板整個(gè)面上擴(kuò)散的擴(kuò)散步驟；和

之后對基板供給顯影液而使基板顯影的顯影步驟，

所述稀釋顯影液的積液形成步驟中的所述噴嘴的移動(dòng)開始地點(diǎn)是從基板中心偏心10mm～20mm的位置，

所述稀釋顯影液的積液形成步驟中的所述噴嘴的移動(dòng)結(jié)束地點(diǎn)是與所述移動(dòng)開始地點(diǎn)不同的從基板中心偏心10mm～20mm的位置。

3.如權(quán)利要求1或2所述的顯影處理方法，其特征在于：

在所述噴嘴移動(dòng)的期間，使所述基板旋轉(zhuǎn)。

4.如權(quán)利要求1或2所述的顯影處理方法，其特征在于：

所述顯影步驟中的顯影液的供給是通過一邊使基板旋轉(zhuǎn)一邊使噴嘴從基板的周邊部向基板的中心側(cè)移動(dòng)來進(jìn)行的。

5.一種顯影處理裝置，其對基板上供給顯影液，使將規(guī)定的圖案曝光了的基板上的抗蝕劑膜顯影，所述顯影處理裝置的特征在于，包括：

基板保持部，保持基板的背面，使該被保持的基板以鉛垂軸為中心旋轉(zhuǎn)；

噴嘴，具有觸液面，形成有對該觸液面供給顯影液的供給孔；

使所述噴嘴移動(dòng)的顯影液噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)；

對基板上供給純水的純水供給噴嘴；

使所述純水供給噴嘴移動(dòng)的另外的移動(dòng)機(jī)構(gòu)；和

控制部，其控制所述顯影液噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使得一邊將供給顯影液的所述噴嘴的觸液面與基板表面的抗蝕劑膜表面之間的距離維持在0.5mm～3.0mm，一邊使供給顯影液的所述噴嘴以通過基板中心的方式在徑向上移動(dòng)，來排出由供給顯影液的所述噴嘴的觸液面與所述抗蝕劑膜的表面之間的稀釋顯影液產(chǎn)生的反應(yīng)生成物，

供給顯影液的所述噴嘴的移動(dòng)開始地點(diǎn)是從基板中心偏心10mm～20mm的位置，

供給顯影液的所述噴嘴的移動(dòng)結(jié)束地點(diǎn)是與所述移動(dòng)開始地點(diǎn)不同的從基板中心偏心10mm～20mm的位置。

6.一種顯影處理裝置，其對基板上供給顯影液，使將規(guī)定的圖案曝光了的基板上的抗蝕劑膜顯影，所述顯影處理裝置的特征在于，包括：

基板保持部，保持基板的背面，并使該被保持的基板以鉛垂軸為中心旋轉(zhuǎn)；

噴嘴，具有觸液面，能夠?qū)υ撚|液面至少供給稀釋顯影液；

使所述噴嘴移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)；

控制部，其控制所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)，以使得一邊將所述噴嘴的觸液面與基板表面的抗蝕劑膜表面之間的距離維持在0.5mm～3.0mm，一邊使所述噴嘴以通過基板中心的方式在徑向上移動(dòng)，來排出由所述噴嘴的觸液面與所述抗蝕劑膜的表面之間的所述稀釋顯影液產(chǎn)生的反應(yīng)生成物，

所述噴嘴的移動(dòng)開始地點(diǎn)是從基板中心偏心10mm～20mm的位置，

所述噴嘴的移動(dòng)結(jié)束地點(diǎn)是與所述移動(dòng)開始地點(diǎn)不同的從基板中心偏心10mm～20mm的位置。