[發明專利]一種歸一化正交多步相移相位測量方法

有效

• 申請號: 201610848564.X
• 申請日: 2016-09-23
• 公開（公告）號: CN106643474B
• 公開（公告）日: 2019-03-08
• 發明（設計）人: 呂曉旭;李嬌聲;鐘麗云;徐杰;劉勝德
• 申請（專利權）人: 華南師范大學
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02
• 代理公司: 深圳市智圈知識產權代理事務所(普通合伙) 44351
• 代理人: 韓紹君

1.一種歸一化正交多步相移相位測量方法，其特征在于，包含以下步驟：

步驟一、構造相移干涉測量系統，在參考光路中使用相移器引入相移量，采集多幅相移干涉圖；

步驟二、構造一系列與步驟一所述相移干涉圖相對應的標稱相移量，將所述相移干涉圖與所述標稱相移量的復指數相乘然后相加，得到含誤差的復干涉項函數；

步驟三、取出所述復干涉項函數的實部并除以干涉圖的均方根值，得到復干涉項的歸一化實部；

步驟四、取出所述復干涉項函數的虛部并除以干涉圖的均方根值，得到復干涉項的歸一化虛部；

步驟五、將所述復干涉項函數的歸一化實部與歸一化虛部相加，并除以干涉圖的均方根值，得到歸一化和函數；

步驟六、將所述復干涉項函數的歸一化虛部與歸一化實部相減，并除以干涉圖的均方根值，得到歸一化差函數；

步驟七、將所述歸一化差函數除以所訴歸一化和函數后求反正切，得到待測量物體包裹相位；

步驟八、將所述包裹相位解包裹，得到待測量物體相位。

2.根據權利要求1所述的歸一化正交多步相移相位測量方法，其特征在于：

所述在參考光中引入相移量是已知或者未知的；所述多幅干涉圖是三幅及以上數量的干涉圖。

3.根據權利要求1所述的歸一化正交多步相移相位測量方法，其特征在于：

所述多幅相移干涉圖是四幅相移干涉圖。

4.根據權利要求2或者3所述的歸一化正交多步相移相位測量方法，其特征在于：

所述對應標稱相移量是與實際相移量一致或者與相移量不一致的相移量。

5.根據權利要求4所述的歸一化正交多步相移相位測量方法，其特征在于：

所述干涉圖的均方根值是整幅干涉圖或者干涉圖中局部區域的均方根值。

6.根據權利要求5所述的歸一化正交多步相移相位測量方法，其特征在于：

所述干涉測量系統由馬赫曾德光路或者邁克爾遜光路構成；所述相移器為壓電陶瓷微位移器或者純相位液晶空間光調制器。