[發(fā)明專利]一種恒溫金屬浴的溫度控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610842398.2 | 申請日: | 2016-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN107861538B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 盛司潼;王筠;朱夢林 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳大學(xué);廣州康昕瑞基因健康科技有限公司 |
| 主分類號: | G05D23/20 | 分類號: | G05D23/20 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)智匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659 | 代理人: | 潘登 |
| 地址: | 518057 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 恒溫 金屬 溫度 控制 方法 | ||
1.一種恒溫金屬浴的溫度控制方法,其特征在于,包括以下步驟:
A、利用M個溫度傳感器檢測N個制冷片投射在同一基座底部的目標(biāo)區(qū)域溫度,得M個檢測溫度,并將所述M個檢測溫度反饋給控制器;每一制冷片有多個溫度傳感器探測該制冷片投射在基座底部的目標(biāo)區(qū)域溫度;
B、控制器以所述M個檢測溫度為基礎(chǔ)獲得N個第一溫度;
C、控制器分別比較N個第一溫度與基座的目標(biāo)溫度,根據(jù)比較結(jié)果分別調(diào)控相應(yīng)制冷片的工作狀態(tài);
所述N為大于等于2的自然數(shù),且M大于N;
探測每一制冷片投射在基座底部的目標(biāo)區(qū)域溫度的各溫度傳感器與該制冷片的距離相等;
所述控制器根據(jù)各制冷片的第一溫度與基座的目標(biāo)溫度的差值大小控制該制冷片的功率;若制冷片的第一溫度與基座的目標(biāo)溫度的絕對值差值小于第一閾值時,控制制冷片工作在第一功率;若制冷片的第一溫度與基座的目標(biāo)溫度的絕對差值大于或等于第一閾值時,控制制冷片工作在第二功率,所述第一功率小于第二功率;
所述探測每一制冷片投射在基座底部的目標(biāo)區(qū)域溫度的各溫度傳感器呈規(guī)則排布,且其中一個溫度傳感器位于其他溫度傳感器連線形成的正多邊形或直線的對稱中心;定義位于其他溫度傳感器連線形成的正多邊形或直線的對稱中心的溫度傳感器所檢測得到的檢測溫度為T0,其他溫度傳感器所檢測得到的多個檢測溫度的平均值為T1;所述第一溫度為T0和T1的平均值;
所述步驟C還包括:定義制冷片的第一溫度處于初始溫度與基座的目標(biāo)溫度之間的制冷片為待調(diào)控制冷片,控制器進(jìn)一步比較各待調(diào)控制冷片的第一溫度,發(fā)出指令提高第一溫度較低的制冷片的工作功率,和/或降低第一溫度較高的制冷片的工作功率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恒溫金屬浴的溫度控制方法,其特征在于,所述M個溫度傳感器中有部分溫度傳感器與多個制冷片的距離相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恒溫金屬浴的溫度控制方法,其特征在于,所述控制器控制制冷片以較低功率工作在目標(biāo)溫度附近。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恒溫金屬浴的溫度控制方法,其特征在于,所述步驟C具體為:控制器分別比較N個第一溫度、基座的目標(biāo)溫度以及初始溫度,若制冷片的第一溫度處于初始溫度與基座的目標(biāo)溫度之間,控制器發(fā)出指令,控制該制冷片繼續(xù)工作;若制冷片的第一溫度等于基座的目標(biāo)溫度或超出初始溫度與基座的目標(biāo)溫度之間的范圍,控制器發(fā)出指令,控制該制冷片停止工作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恒溫金屬浴的溫度控制方法,其特征在于,所述步驟C具體為:控制器分別比較N個第一溫度、基座的目標(biāo)溫度以及初始溫度,若制冷片的第一溫度超出初始溫度與基座的目標(biāo)溫度之間的范圍,控制器發(fā)出指令,控制該制冷片按與當(dāng)前工作方式相反的形式工作。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的恒溫金屬浴的溫度控制方法,其特征在于,所述制冷片直接貼合在基座底部或通過導(dǎo)熱層與基座相連。
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