[發明專利]一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統

有效

• 申請號: 201610842138.5
• 申請日: 2016-09-23
• 公開（公告）號: CN107870443A
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 張亦卓;胡文華;武彩霞;崔麗;顧海棟
• 申請（專利權）人: 中國航空工業集團公司北京航空制造工程研究所
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統，其特征在于：本振激光被第一偏振鏡反射的部分激光被第一空間光耦合器耦合進光纖，光纖經過聲光移頻器后被第一光纖耦合器耦合進兩根光纖，分別進入第二光纖耦合器和第三光纖耦合器，第二光纖耦合器和第三光纖耦合器的出射光纖，分別進入第一光纖探測器和第二光纖探測器，輸出電信號進入相位檢測與控制電路后，得到的反饋電控制信號控制第一相位調制器和第二相位調制器，分別對兩路激光進行相位控制，實現兩束發射激光的相干合成。

2.根據權利要求1所述的一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統，其特征在于：本振激光經第一偏振鏡透射的部分激光依次經過法拉第旋光器和第二偏振鏡后，被分光鏡分為兩路。

3.根據權利要求2所述的一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統，其特征在于：被分光鏡分為兩路的激光一路依次經過第一反射鏡和第一相位調制器及第一激光放大序列后，超過99%的激光被第三反射鏡反射作為激光輸出，經第三反射鏡透射的激光被第二空間光耦合器耦合進光纖，進入第三光纖耦合器；被分光鏡分為兩路的另一路經過第二反射鏡、第二相位調制器、第二激光放大序列后，超過99%的激光被第四反射鏡反射作為激光輸出，經第四反射鏡透射的激光被第三空間光耦合器耦合進光纖，進入第二光纖耦合器。

4.根據權利要求1所述的一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統，其特征在于：反饋信號全部采用光纖傳輸。

5.根據權利要求1所述的一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統，其特征在于：所述本振激光為1064 nm激光器。

6.根據權利要求1所述的一種基于外差法的全光纖反饋激光相干合成系統，其特征在于：第一光纖耦合器耦合和第二光纖耦合器及第三光纖耦合器全部為1×2光纖耦合器。