[發(fā)明專利]光順加工的光順區(qū)域的規(guī)劃方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610836418.5 | 申請日: | 2016-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN106649926B | 公開(公告)日: | 2019-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳麗翔;魏朝陽;邵建達(dá);程鑫 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50;G01B11/24 |
| 代理公司: | 31213 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純;張寧展<國際申請>=<國際公布> |
| 地址: | 201800 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加工 區(qū)域 規(guī)劃 方法 | ||
1.一種光順加工的規(guī)劃光順區(qū)域的方法,其特征在于該方法包括如下四個步驟:
1)測量待加工表面:使用ZYGO干涉儀對光學(xué)元件進(jìn)行全口徑面形測量,得到已校正面形傾斜的原始面形圖S(x,y),其尺寸為M像素×N像素,像素間距為dx米;
2)對原始面形圖S(x,y)進(jìn)行功率譜密度分析:根據(jù)光柵掃描加工的特點(diǎn),通常在X軸方向或Y軸方向出現(xiàn)明顯中頻誤差,為了表述方便,不妨令有明顯中頻誤差的方向為Y軸方向,而X軸與Y軸垂直;計算一維功率譜密度分布,得到沿Y軸方向的一維功率譜密度曲線,再尋找該功率譜密度曲線上最明顯的尖峰,令此尖峰所對應(yīng)的空間頻率為f1;
3)基于Fourier級數(shù)提取中頻面形誤差:
首先,將原始面形圖S(x,y)進(jìn)行Fourier級數(shù)展開:
其中,和分別表示非負(fù)整數(shù)和整數(shù);Cm,n為Fourier系數(shù),|Cm,n|表示取模或絕對值;ω1=2π/T1和ω2=2π/T2為角頻率,T1=M×dx,T2=N×dx;Pm,n為正弦波面,其方向和周期分別為和i表示虛數(shù)單位;m∈Z≥0表示m為非負(fù)整數(shù),n∈Z表示n為整數(shù);
然后,計算空間頻率f1所對應(yīng)的正弦波面Pm,n:
由于只提取Y軸方向的中頻誤差,故令m=0,代入公式計算得n1=ROUND(N×dx×f1),其中,ROUND()表示四舍五入取整函數(shù),即所對應(yīng)的正弦波面為
最后,對與正弦波面的方向及周期相近的多個正弦波面進(jìn)行求和,得到要提取的中頻面形誤差;
4)規(guī)劃光順區(qū)域:
分析中頻面形誤差沿Y軸方向的剖面輪廓曲線,計算該曲線上數(shù)值的平均值和標(biāo)準(zhǔn)差Δy,在該剖面輪廓曲線所在坐標(biāo)系上添加與橫軸平行且縱軸坐標(biāo)分別為的三條直線,該剖面輪廓曲線中整體波動范圍超過的部分標(biāo)記為需要光順的區(qū)間,最后參照標(biāo)記的光順區(qū)間在原始面形圖S(x,y)上規(guī)劃出光順區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光順加工的規(guī)劃光順區(qū)域的方法,其特征在于所述的多個正弦波面為求和得提取的中頻面形誤差為
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