[發明專利]一種高分辨率的線陣CCD直讀型光譜儀有效
| 申請號： | 201610832973.0 | 申請日： | 2016-09-19 |
| 公開（公告）號： | CN106441581B | 公開（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發明（設計）人： | 萬助軍;顏世佳;占爽;馮冬;羅志祥 | 申請（專利權）人： | 華中科技大學 |
| 主分類號： | G01J3/42 | 分類號： | G01J3/42 |
| 代理公司： | 武漢東喻專利代理事務所(普通合伙)42224 | 代理人： | 宋業斌 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高分辨率 ccd 直讀 光譜儀 | ||
1.一種高分辨率的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，包括：入射模塊、準直鏡、光柵、聚焦鏡和線陣CCD芯片；
所述準直鏡設置在所述入射模塊的出射光路上，所述光柵設置在所述準直鏡的出射光路上，所述聚焦鏡設置在所述光柵的出射光路上，所述線陣CCD芯片設置在所述聚焦鏡的出射光路上；
所述入射模塊用于將光譜儀的工作波段分割為數個子波段，并控制每次只有一個子波段的光束出射；所述準直鏡用于將所述入射模塊的出射光準直后以不同傾角入射在所述光柵上，以不同傾角入射的不同子波段的光束的中心波長具有相同的衍射角，經所述光柵反射的光再經所述聚焦鏡后投射在所述線陣CCD芯片上；
所述入射模塊包括：狹縫陣列、濾光片陣列和活動光闌；
所述狹縫陣列設置在垂直于光軸的方向上；
所述濾光片陣列設置于所述狹縫陣列之前或之后，且所述濾光片陣列中每個子濾光片與所述狹縫陣列中的每個狹縫一一對應；
所述活動光闌設置于所述濾光片陣列之后。
2.如權利要求1所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，所述入射模塊與所述準直鏡之間的距離為所述聚焦鏡與所述線陣CCD芯片的距離為其中，f1為準直鏡焦距，α1為準直鏡離軸角，f2為聚焦鏡焦距，α2為聚焦鏡離軸角。
3.如權利要求1所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，所述入射模塊包括：狹縫陣列、濾光片陣列和活動光闌；
所述狹縫陣列設置在垂直于光軸的方向上；
所述濾光片陣列設置于所述狹縫陣列之前或之后，且所述濾光片陣列中每個子濾光片與所述狹縫陣列中的每個狹縫一一對應；
所述活動光闌設置于所述狹縫陣列之前。
4.如權利要求1或3所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，所述濾光片陣列中子濾光片的數量與所述狹縫陣列中狹縫的數量相同。
5.如權利要求1或3所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，每個子濾光片的帶通范圍對應一個子波段范圍。
6.如權利要求1或3所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，所述狹縫陣列中各個狹縫與光軸的距離按其子波段中心波長衍射角相等的原則確定。
7.如權利要求1所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，所述準直鏡為透鏡式準直鏡，所述透鏡式準直鏡與所述狹縫陣列共光軸設置。
8.如權利要求1所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，所述準直鏡為反射式準直鏡，所述反射式準直鏡的反射面正對所述狹縫陣列的中心。
9.如權利要求1所述的線陣CCD直讀型光譜儀，其特征在于，活動光闌包括：光闌和步進電機，所述步進電機用于控制所述光闌的運動方向及距離。
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