[發明專利]曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法

有效

• 申請號: 201610832366.4
• 申請日: 2012-12-28
• 公開（公告）號: CN106919002B
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 柴崎佑一
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/683
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王濤

1.一種曝光裝置，用于經由光學系統以照明光將基板曝光，所述曝光裝置具備：

載臺，其具有用于保持所述基板的保持具；

搬送系統，其具有能將所述基板從其表面側以非接觸方式支承，至少可于與所述光學系統的光軸平行的鉛直方向移動的第1支承構件，且其搬送所述基板至自所述光學系統分離設定的裝載位置；

第2支承構件，設置于所述載臺，能將通過所述第1支承構件以非接觸地支承的基板從其背面側支承，且可與所述第1支承部獨立地于所述鉛直方向移動；

驅動裝置，其于配置所述載臺的所述裝載位置，可至少于所述鉛直方向相對移動所述第1支承構件與所述第2支承構件與所述保持具；以及

控制器，其控制所述搬送系統及所述驅動裝置，以經由所述第1支承構件自所述搬送系統搬送所述基板至所述保持具。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，通過所述搬送系統進行所述基板的變形控制、溫度調整及預對準的至少一方。

3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其中，控制所述第1支承構件對所述基板的斥力與引力的至少一方以控制所述基板的變形。

4.根據權利要求1至3中任一權利要求所述的曝光裝置，其中，所述第1支承構件包含以非接觸方式保持所述基板的夾具構件、以及所述基板的溫度調整構件；

所述基板，一邊通過所述夾具構件以非接觸方式予以支承，一邊通過所述溫度調整構件調整溫度。

5.根據權利要求4所述的曝光裝置，其中，所述夾具構件包含利用貝努里效果的貝努里夾具。

6.根據權利要求1至5中任一權利要求所述的曝光裝置，其進一步具備測量系統，其測量所述基板的位置信息；

于通過所述保持具保持所述基板前，通過所述測量系統測量所述基板的位置信息。

7.根據權利要求6所述的曝光裝置，其中，根據通過所述測量系統測量的所述基板的位置信息，調整所述基板與所述保持具的相對位置關系。

8.根據權利要求1至7中任一權利要求所述的曝光裝置，其中，所述搬送系統具有保持構件，所述保持構件將通過所述第1支承構件以非接觸方式支承的基板，從與其表面不同的部分予以接觸保持。

9.根據權利要求1至8中任一權利要求所述的曝光裝置，其中，所述搬送系統具有搬送構件，所述搬送構件搬送所述基板至所述載臺的上方且所述第1支承構件的下方處。

10.一種元件制造方法，包含：

通過權利要求1至9中任一權利要求所述的曝光裝置將基板曝光的動作；以及

使曝光后的所述基板顯影的動作。

11.一種曝光方法，用于經由光學系統以照明光將基板曝光，所述曝光方法包含：

將具有用于保持所述基板的保持具的載臺，配置于自所述光學系統分離設定的裝載位置的動作；

于所述載臺的上方，通過至少可于與所述光學系統的光軸平行的鉛直方向移動的第1支承構件將所述基板從其表面側以非接觸方式支承的動作；以及

將通過所述第1支承構件以非接觸的方式支承的該基板，通過可與所述第1支承構件獨立地于所述鉛直方向移動的第2支承構件，從其背面側在所述載臺上支承，

至少于所述鉛直方向相對移動所述第1、第2支承構件與所述保持具，以將通過所述第1、第2支承構件支承的所述基板搬送至所述保持具的動作。

12.根據權利要求11所述的曝光方法，其中，通過具有所述第1支承構件的所述基板的搬送系統，進行所述基板的變形控制、溫度調整及預對準的至少一方。

13.根據權利要求11或12所述的曝光方法，其中，控制所述第1支承構件對所述基板的斥力與引力的至少一方以控制所述基板的變形。