[發(fā)明專利]一種MoS2/暴露(001)面的TiO2二維片狀復(fù)合光催化材料的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610831173.7 | 申請日： | 2016-09-19 |
| 公開（公告）號： | CN106513019A | 公開（公告）日： | 2017-03-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李晉波;張世英;李超成;周藝;鄧亞伸 | 申請（專利權(quán)）人： | 長沙學(xué)院 |
| 主分類號： | B01J27/051 | 分類號： | B01J27/051 |
| 代理公司： | 長沙楚為知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)43217 | 代理人： | 李大為 |
| 地址： | 410000 湖*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 mos2 暴露 001 tio2 二維 片狀 復(fù)合 光催化 材料 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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