[發明專利]高抗酸蝕Y微合金化TiAl基合金有效
| 申請號: | 201610818502.4 | 申請日: | 2016-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN106367624B | 公開(公告)日: | 2017-10-13 |
| 發明(設計)人: | 許曉靜;何志盛;張潔;韓天;何星華;劉慶輝;黃晶;楊松 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | C22C1/04 | 分類號: | C22C1/04;C22C19/03 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責任公司32218 | 代理人: | 瞿網蘭 |
| 地址: | 212013 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高抗酸蝕 合金 tial | ||
技術領域
本發明涉及一種材料技術,尤其是一種TiAl基合金,具體地說是一種高抗酸蝕的含單質稀土Y的TiAl基合金。
背景技術
TiAl基合金由于具有密度低、高溫強度好、阻燃、抗氧化和抗蠕變能力強等特點,作為新型輕質耐高溫結構材料,在航空航天領域極具競爭力和發展潛力。
TiAl基合金的制備技術中應用較多的是鑄造和粉末冶金等。鑄態的TiAl基合金由于其粗大的全片層組織,成分不均,以及鑄造合金的常見缺陷,導致其力學性能較差,室溫塑性很低。而粉末冶金恰恰能克服鑄造的上述缺陷,并且具有易于添加元素和復合材料的優點,目前已成為制備TiAl基合金的重要技術之一。
近年來,隨著我國航空航天、軍事、汽車快速的快速發展,TiAl基合金受到廣泛關注。提高材料的綜合性能,有利于TiAl基合適用更復雜的環境。通過制備含稀有元素的TiAl基合金能顯著提高材料的性能,帶來很大的經濟效益。件據申請人所知,尚未有通過粉末冶金來制備含單質稀土Y的TiAl基合金的報道。
發明內容
本發明的目的在于針對現有的TiAl基合金抗腐蝕性能差的剖,發明一種高抗酸蝕的含單質稀土Y的TiAl基合金,它具有優異的抗酸蝕性能等優點,而且具有操作簡單、易實現,具有優良的經濟性。
本發明的技術方案是:
一種高抗酸蝕的含單質稀土Y的TiAl基合金,其特征是它是由Ti、Al、V、Nb產Y粉末利用高能球磨—冷壓成形—無壓真空燒結制備而成。
所述的Ti、Al、V、Nb、Y五種粉末的名義成分為Ti-45Al-5V-4Nb-XY(at.%),X的取值為0.2-0.4。
所述的Ti、Al、V、Nb、Y五種粉末的名義成分為Ti-45Al-5V-4Nb-0.3Y(at.%)。
所述的Ti、Al、V、Nb、Y五種粉末的均為納米粉。
所述的高能球磨工藝參數為:Φ10 mm、Φ6 mm、Φ4 mm的瑪瑙珠若干,球料比為10:1,轉速為300 r/min,球磨1 h停15 min,球磨總時間為48 h。
所述的冷壓成形工藝參數為:壓力為1000 MPa。
所述的無壓真空燒結工藝參數為:先預燒至600 ℃,保溫2h后升溫到800 ℃,保溫2h后升溫到1100 ℃,保溫4 h后隨爐冷卻;其中真空度為10-1 Pa,升溫速率為10 °/min。
具體制備步驟如下:
步驟1,高能球磨:將Ti、Al等復合粉末進行高能球磨,具體球磨工藝參數:Φ10 mm、Φ6 mm、Φ4 mm的瑪瑙珠若干,球料比為10:1,轉速為300 r/min,球磨1 h停15 min,球磨總時間為48 h。
步驟2,粉末壓制:將機械球磨且烘干的粉末按一定的量裝入?30mm的模具中,再在100 t四柱液壓機上進行壓制成坯體,壓制時是壓力為1000 MPa,壓制出來的坯體厚度為2-5 mm。
步驟3,真空燒結:將壓制好的塊體體放置于電熱干燥箱中以120℃的溫度干燥10 h后,放置于真空燒結爐中進行燒結,抽真空至10-1后進行燒結升溫,升溫速率為10 ℃/min。先預燒至600 ℃,保溫 2 小時后溫度升至 800 ℃,保溫2小時后溫度升至 1100 ℃,保溫4小時后隨爐冷卻。
步驟 4,浸泡腐蝕試驗:采用常溫浸泡腐蝕,在密閉的容器中進行。將燒結好的塊體材料切成10 mm×10 mm×3 mm大小的樣品,兩個正方形的表面分別在120#、280#、500#、800#、1000#的金相砂紙上對其打磨,而后在拋光機上采用Al2O3拋光液和金剛石拋光劑將試樣拋光。選用溶液為1 mol/L的HCl,浸泡時間為100 h,采用光學天平(精度0.0001 g)稱量質量,每過一定時間將腐蝕的試樣從腐蝕液中取出、干燥、稱重記錄。為了保證腐蝕的均勻性,腐蝕液每過24 h進行一次更換。利用掃描電鏡(SEM)對腐蝕后表面及橫截面形貌進行觀察。
本發明的有益效果是:
(1)本發明通過高能球磨—冷壓成形—無壓真空燒結工藝,獲得的一種含單質稀土Y的TiAl基合金,提供了一種可工業化生產的工藝方法。
(2)采用該法制備的含單質稀土Y的TiAl基合金具有優異的抗酸蝕性能。
附圖說明
圖1是實施例一燒結表面的形貌圖。
圖2是實施例一燒結表面的X射線衍射圖。
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