[發(fā)明專利]一種奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置的設(shè)計與制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610816395.1 | 申請日: | 2016-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN106229106B | 公開(公告)日: | 2017-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳巧燕;徐雅潔;常嚴(yán);楊曉冬 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | H01F7/02 | 分類號: | H01F7/02;H01F41/02;G06F17/50 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司32232 | 代理人: | 傅靖 |
| 地址: | 215163 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 奇數(shù) halbach 陣列 永磁體 裝置 設(shè)計 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于永磁機(jī)構(gòu)領(lǐng)域,具體涉及一種奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置的設(shè)計與制作方法。
背景技術(shù)
核磁共振技術(shù)的無損檢測特點使其在生物、物理、化學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用,核磁共振成像檢測更是成為臨床診斷必不可少的手段之一。大型的超導(dǎo)高場磁共振儀器是當(dāng)今磁共振技術(shù)發(fā)展的一個熱點,但是小型化、便攜式的永磁低場核磁共振設(shè)備更適用于工業(yè)和食品檢測、探礦、考古、大分子結(jié)構(gòu)分析等方面。常規(guī)的小型便攜核磁共振儀器多采用傳統(tǒng)永磁體,其磁體一般由鐵軛、永磁磁塊及勻場極板等構(gòu)成,這類磁體由于鐵軛的存在,體積大,比較笨重,且通常可利用的磁場空間有限、漏磁嚴(yán)重、磁場強(qiáng)度有限。針對這一問題,在上世紀(jì)80年代,美國加利福尼亞大學(xué)的物理學(xué)家K.Halbach設(shè)計了一種使用稀土材料的新型無鐵軛多級磁體結(jié)構(gòu),這種永磁體結(jié)構(gòu)是由多個磁塊按照一定的規(guī)律組合成的,相鄰的磁塊具有不同的充磁方向,且產(chǎn)生的較理想的單邊磁場。由于這種磁體結(jié)構(gòu)的優(yōu)異特性,得到了學(xué)者和工程人員的廣泛關(guān)注,并且被應(yīng)用于諸多的領(lǐng)域。
根據(jù)組合后的磁體形狀一般分為直線型和圓柱型Halbach陣列兩大類。直線型Halbach陣列是一種最基本的組合方式,主要用于制造直線電機(jī)。圓柱型Halbach陣列可以看做將直線型Halbach陣列首尾相接組成的,其又可分為多對極的和單對極的圓柱型Halbach陣列兩種。多對極圓柱型Halbach陣列主要用于永磁電機(jī)和永磁軸承等領(lǐng)域。而單對極圓柱型Halbach陣列由于其不帶鐵磁材料、漏磁小和高均勻性的特性,逐漸應(yīng)用于核磁共振檢測和核磁共振成像等方面。本專利中所提及的Halbach陣列皆是對單對極圓柱型Halbach陣列的特指。
相對于傳統(tǒng)的永磁體,Halbach磁體不僅具有能產(chǎn)生高強(qiáng)度和高均勻性磁場的優(yōu)點,而且還具有體積比較小的優(yōu)點,容易實現(xiàn)小型化和便攜化。但當(dāng)磁體體積進(jìn)一步減小時,磁場的均勻性會變得更差,兩者不可兼得。
因此,提出一種同時具備較小的體積和較高均勻性的Halbach陣列磁體是解決上述問題的關(guān)鍵。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提出了一種奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置,包含設(shè)計方法與制作方法,根據(jù)該設(shè)計和制作獲得的Halbach陣列永磁體裝置磁場均勻度高,磁體的體積小、重量輕。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置的設(shè)計方法,該裝置包括奇數(shù)層的磁體,且磁體包括:設(shè)置于中心的中心層磁體以及設(shè)置于中心層磁體外側(cè)的外層磁體,中心層磁體的高度為H0,外層磁體的高度為H1,奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置的設(shè)計方法用于確定每層磁體之間的距離,具體包括以下步驟:
S.1建立奇數(shù)層Halbach磁體的中心軸磁場等效數(shù)學(xué)模型,其計算公式如下:
其中,x=z/r,t1=S1/r,t2=S2/r,...,t(m-1)/2=S(m-1)/2/r,Si為每層磁體之間的距離(i=1,2,…,(m-1)/2),k=H0/H1,z為中心軸上的距離,r為奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置的等效半徑,m為層數(shù)(m為奇數(shù),且m>=3);
令F(t1,t2,…,t(m-1)/2,k)=min{abs(f”(0))+abs((f(s/r)-f(0))/f(0))};
S.2設(shè)定參數(shù)(t1,t2,…,t(m-1)/2,k)的初始范圍,其中t1<t2<…<t(m-1)/2,其范圍選擇根據(jù)層數(shù)的不同而不同;
S.3設(shè)定步長,在參數(shù)的范圍均勻取值,并將每組參數(shù)代入目標(biāo)函數(shù)F中,尋找令F值最小的一組參數(shù);
S.4增加限制條件如下,判斷步驟S.3所得到的參數(shù)是否滿足以下限制條件:
其中:λ=ΔB/B,表示磁場的均勻度;
若參數(shù)滿足限制條件,則進(jìn)行仿真驗證,若仿真驗證結(jié)果滿足要求,則輸出最優(yōu)參數(shù),奇數(shù)層的Halbach陣列永磁體裝置的設(shè)計方法結(jié)束;
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