[發明專利]限制板單元和蒸鍍單元以及蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201610815187.X
• 申請日: 2014-03-10
• 公開（公告）號: CN107083531B
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發明（設計）人: 小林勇毅;菊池克浩;川戶伸一;井上智;越智貴志;松本榮一;市原正浩
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;池兵

1.一種蒸鍍單元，其特征在于，具備：

蒸鍍掩模；

向所述蒸鍍掩模射出蒸鍍顆粒的蒸鍍源；和

設置在所述蒸鍍掩模與蒸鍍源之間，限制從蒸鍍源射出的蒸鍍顆粒的通過角度的限制板單元，

當將與被成膜基板的被蒸鍍面的法線方向和被成膜基板的掃描方向垂直的方向設為第一方向時，

所述限制板單元具備在所述第一方向相互隔開地設置的多個第一限制板，

在所述第一限制板的上表面，沿著所述第一限制板，在所述第一方向設置有至少2個突起部。

2.如權利要求1所述的蒸鍍單元，其特征在于：

在從與所述蒸鍍掩模的主面垂直的方向看時，在所述第一限制板間分別設置有所述蒸鍍源的蒸鍍顆粒的射出口，

與所述被成膜基板的被蒸鍍面的法線方向和所述第一方向垂直的第二方向的所述突起部的長度，比該第二方向的所述第一限制板的長度短，

在從與所述蒸鍍掩模的主面垂直的方向看時，所述突起部與所述射出口相鄰地設置。

3.如權利要求1或2所述的蒸鍍單元，其特征在于：

所述突起部至少形成在與所述第一限制板的所述第一方向的兩端部共面的位置。

4.一種蒸鍍裝置，其特征在于，具備：

權利要求1～3中任一項所述的蒸鍍單元；和

移動裝置，該移動裝置在所述蒸鍍單元的蒸鍍掩模與被成膜基板相對配置的狀態下，使所述蒸鍍單元和所述被成膜基板中的一個在與所述被成膜基板的被蒸鍍面的法線方向和所述第一方向垂直的第二方向相對移動，

所述蒸鍍掩模的所述第二方向的寬度小于所述第二方向的被成膜基板的寬度，

在沿著所述第二方向掃描的同時，使從所述蒸鍍源出射的蒸鍍顆粒通過所述限制板單元和所述蒸鍍掩模的開口部蒸鍍在所述被成膜基板上。

5.一種限制板單元，其為設置在蒸鍍掩模與蒸鍍源之間，限制從蒸鍍源射出的蒸鍍顆粒的通過角度的限制板單元，所述限制板單元的特征在于：

當將與被成膜基板的被蒸鍍面的法線方向和被成膜基板的掃描方向垂直的方向設為第一方向時，

所述限制板單元具備在所述第一方向相互隔開地設置的多個第一限制板，

在所述第一限制板的上表面，沿著所述第一限制板，在所述第一方向設置有至少2個突起部。