[發(fā)明專利]開閉裝置和圖像形成設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610812412.4 | 申請日: | 2016-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN107219744B | 公開(公告)日: | 2020-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉田倫明 | 申請(專利權(quán))人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G21/16 | 分類號: | G03G21/16 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 王小東 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 開閉 裝置 圖像 形成 設(shè)備 | ||
本發(fā)明涉及開閉裝置和圖像形成設(shè)備。所述開閉裝置包括:開閉構(gòu)件,所述開閉構(gòu)件旋轉(zhuǎn)以打開和閉合殼體的開口;軸構(gòu)件,所述軸構(gòu)件形成在所述開閉構(gòu)件的一側(cè)的部分處并由軸形成,所述開閉構(gòu)件相對于所述殼體繞所述軸旋轉(zhuǎn);把持部,所述把持部形成在所述開閉構(gòu)件的另一側(cè)的部分處并供使用者把持;被嚙合部,所述被嚙合部形成在所述開閉構(gòu)件的另一側(cè)的部分處并與形成在所述殼體處的嚙合部嚙合;以及抑制單元,所述抑制單元形成在所述開閉構(gòu)件的一側(cè)的部分處并抑制所述開閉構(gòu)件由于所述嚙合部與所述被嚙合部的嚙合的解除而變形。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種開閉裝置和圖像形成設(shè)備。
背景技術(shù)
專利文獻(xiàn)1公開了一種開閉裝置,在該開閉裝置中設(shè)置有緩沖構(gòu)件以在蓋(開閉構(gòu)件)由于其自重旋轉(zhuǎn)時實(shí)現(xiàn)緩沖效果。
[專利文獻(xiàn)1]日本專利申請?zhí)亻_2004-45585號公報
發(fā)明內(nèi)容
已提供一種構(gòu)造,在該構(gòu)造中,使用者把持開閉構(gòu)件的把持部,所述開閉構(gòu)件和殼體從二者之間的嚙合部脫離接合以使所述開閉構(gòu)件旋轉(zhuǎn),從而打開所述殼體的開口。
在該構(gòu)造中,當(dāng)所述開閉構(gòu)件具有低剛性,當(dāng)所述開閉構(gòu)件與所述殼體之間的所述嚙合部中的嚙合被解除時,所述開閉構(gòu)件可能會變形接著可能會彎曲并搖動。
本發(fā)明的目的是:與未設(shè)置有抑制開閉構(gòu)件由于開閉構(gòu)件與殼體之間的嚙合部中的嚙合解除而變形的抑制構(gòu)件的情況相比,抑制開閉構(gòu)件由于所述嚙合部中的嚙合解除而變形。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供了一種開閉裝置,所述開閉裝置包括:
開閉構(gòu)件,所述開閉構(gòu)件旋轉(zhuǎn)以打開和閉合殼體的開口;
軸構(gòu)件,所述軸構(gòu)件形成在所述開閉構(gòu)件的一側(cè)的部分處并由軸形成,所述開閉構(gòu)件相對于所述殼體繞所述軸旋轉(zhuǎn);
把持部,所述把持部形成在所述開閉構(gòu)件的另一側(cè)的部分處并供使用者把持;
被嚙合部,所述被嚙合部形成在所述開閉構(gòu)件的另一側(cè)的部分處,并且在所述開閉構(gòu)件布置于閉合所述殼體的所述開口的閉合位置的情況下所述被嚙合部與形成在所述殼體處的嚙合部嚙合;以及
抑制單元,所述抑制單元形成在所述開閉構(gòu)件的一側(cè)的部分處并抑制所述開閉構(gòu)件由于所述嚙合部與所述被嚙合部的嚙合的解除而變形。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面,提供了根據(jù)第一方面的開閉裝置,
其中,所述抑制單元包括:
突出構(gòu)件,所述突出構(gòu)件在所述軸構(gòu)件的軸向方向上形成在所述開閉構(gòu)件的中央側(cè)的部分處并從所述開閉構(gòu)件伸出;以及
一對夾持構(gòu)件,所述一對夾持構(gòu)件形成在所述殼體處,在所述軸向方向上夾持所述突出構(gòu)件,并且具有由于所述開閉構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而抵抗所述突出構(gòu)件所產(chǎn)生的抗滑阻力。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面,提供了根據(jù)第二方面的開閉裝置,
其中,當(dāng)布置于所述閉合位置的所述開閉構(gòu)件朝向打開所述殼體的所述開口的打開位置旋轉(zhuǎn)并且至少所述嚙合部與所述被嚙合部的嚙合被解除時,所述夾持構(gòu)件夾持所述突出構(gòu)件。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面,提供了根據(jù)第一至第三方面中任一方面的開閉裝置,
其中,所述抑制單元包括:
伸出構(gòu)件,所述伸出構(gòu)件從所述軸構(gòu)件向所述軸構(gòu)件的徑向方向的外側(cè)伸出并能沿所述徑向方向彎曲;以及
接觸構(gòu)件,所述接觸構(gòu)件形成在所述殼體上,從所述徑向方向的外側(cè)接觸所述伸出構(gòu)件,并具有當(dāng)所述開閉構(gòu)件旋轉(zhuǎn)時抵抗所述伸出構(gòu)件而產(chǎn)生的抗滑阻力。
根據(jù)本發(fā)明的第五方面,提供了根據(jù)第四方面的開閉裝置,
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