[發(fā)明專利]一種負性含氟聚碳酸酯光刻膠組合物及用于制備光學(xué)開關(guān)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610811983.6 | 申請日： | 2016-09-09 |
| 公開（公告）號： | CN106406029A | 公開（公告）日： | 2017-02-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 崔占臣;蔡珍珍;史作森;李闖洋 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉林大學(xué) |
| 主分類號： | G03F7/038 | 分類號： | G03F7/038;G03F7/004;G02F1/01;C08G64/42 |
| 代理公司： | 長春吉大專利代理有限責任公司22201 | 代理人： | 劉世純,王恩遠 |
| 地址： | 130012 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 負性含氟 聚碳酸酯 光刻 組合 用于 制備 光學(xué) 開關(guān) | ||
【說明書】：
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?；蝾愃朴∷⒛５闹谱?，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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