[發明專利]研磨墊修整方法、研磨墊修整裝置及化學機械研磨設備

有效

• 申請號: 201610802247.4
• 申請日: 2016-09-05
• 公開（公告）號: CN106239356B
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 陳盈同
• 申請（專利權）人: 詠巨科技有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34;B24B37/04;B24B53/017;B24B53/14
• 代理公司: 北京市商泰律師事務所11255
• 代理人: 毛燕生

1.一種研磨墊修整方法，其特征在于其包括：

先硬化位于一研磨墊的一拋光面上的一待修整區內的多個軟質微結構；以及

利用一修整器切削位于所述待修整區內的被硬化的多個所述軟質微結構，以修整所述研磨墊的所述拋光面；

其中，硬化位于所述待修整區內的多個所述軟質微結構的步驟是通過急速冷凍來完成；所述急速冷凍是在所述待修整區內噴灑一冷凍劑；所述冷凍劑為液態氮、液態氧、干冰或是冷媒。

2.根據權利要求1所述的研磨墊修整方法，其中，利用所述修整器修整所述研磨墊的所述拋光面時，所述研磨墊通過一轉軸以產生自轉，且噴灑所述冷凍劑的步驟與利用所述修整器修整所述拋光面的步驟是沿著同一方向同步進行。

3.根據權利要求2所述的研磨墊修整方法，其中，在噴灑所述冷凍劑的步驟中，還進一步包括：沿著所述研磨墊的一徑向方向移動，并且連續地或間歇地噴灑所述冷凍劑在所述研磨墊的所述拋光面上，在噴灑所述冷凍劑的步驟中，還進一步包括：在所述研磨墊的一徑向方向上連續地或間歇地噴灑所述冷凍劑于所述研磨墊的所述拋光面上。

4.一種研磨墊修整裝置，其包括：

一修整器，其用以修整一研磨墊的一拋光面；以及

一拋光面處理單元，其設置于所述研磨墊的上方，其中，在所述修整器修整所述拋光面上的一待修整區之前，先利用所述拋光面處理單元硬化位于所述待修整區內的多個軟質微結構；

所述拋光面處理單元包括一用于供應一冷凍劑的供應單元以及一與所述供應單元互相連通的噴嘴，且所述供應單元所供應的所述冷凍劑通過所述噴嘴以噴灑在所述待修整區；還包括一移動臂及一能自轉地連接于所述移動臂的自轉軸；所述拋光面處理單元設置于所述移動臂上，且所述修整器通過所述自轉軸以設置于移動臂上，以使得所述拋光面處理單元與所述修整器兩者通過所述移動臂以同步移動；所述拋光面處理單元與所述修整器相鄰，當所述研磨墊通過一轉軸以朝一自轉方向自轉時，所述拋光面處理單元與所述修整器沿著所述自轉方向依序設置。

5.一種化學機械研磨設備，其包括：

一載臺，其連接于一轉軸以產生自轉；

一研磨墊，其設置于所述載臺上，所述研磨墊具有一拋光面；以及

一研磨墊修整裝置，其包括：

一修整器，其設置于所述研磨墊上，用以修整所述拋光面；以及

一拋光面處理單元，其設置于所述研磨墊的上方，其中，在所述修整器通過所述拋光面上的一待修整區之前，先利用所述拋光面處理單元硬化位于所述待修整區內的多個軟質微結構；

所述拋光面處理單元包括一用于供應一冷凍劑的供應單元以及一與所述供應單元互相連通的噴嘴，且所述供應單元所供應的所述冷凍劑通過所述噴嘴以噴灑在所述待修整區；還包括一清潔單元，其通過噴灑一清潔液，以清洗所述研磨墊并使所述研磨墊的所述待修整區內被硬化的多個所述軟質微結構解凍。

6.根據權利要求5所述的化學機械研磨設備，其中，所述研磨墊修整裝置還包括一移動臂以及一能自轉地連接于所述移動臂的自轉軸；所述拋光面處理單元設置于所述移動臂上，且所述修整器通過所述自轉軸以設置于移動臂上，以使得所述拋光面處理單元與所述修整器兩者通過所述移動臂而同步移動。

7.根據權利要求5所述的化學機械研磨設備，其中，所述拋光面處理單元與所述修整器彼此相鄰，當所述研磨墊通過所述轉軸以朝一自轉方向自轉時，所述拋光面處理單元與所述修整器沿著所述自轉方向依序設置。