[發(fā)明專利]圖像形成設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610801587.5 | 申請日: | 2016-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN107121907A | 公開(公告)日: | 2017-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 富永宜幸;渡邊翔 | 申請(專利權(quán))人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/20 | 分類號: | G03G15/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127 | 代理人: | 王小東 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 形成 設(shè)備 | ||
1.一種圖像形成設(shè)備,所述圖像形成設(shè)備將包括未含有金屬顏料的第一色調(diào)劑的第一圖像轉(zhuǎn)印到平滑度為112秒以下的特定介質(zhì)上,將所述第一圖像用作底層而定影到所述特定介質(zhì)上,并且將包括含有金屬顏料的第二色調(diào)劑的第二圖像轉(zhuǎn)印并定影到定影于所述特定介質(zhì)上的所述底層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成設(shè)備,其中,所述金屬顏料具有扁平形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像形成設(shè)備,其中,將所述第一圖像用作所述底層而定影到所述特定介質(zhì)時的定影溫度高于僅將所述第一圖像定影到所述特定介質(zhì)時的定影溫度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的圖像形成設(shè)備,其中,將所述第一圖像用作所述底層而定影到所述特定介質(zhì)時的定影速度低于僅將所述第一圖像定影到所述特定介質(zhì)時的定影速度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的圖像形成設(shè)備,其中,將所述第一圖像用作所述底層而定影到所述特定介質(zhì)時的所述第一圖像的色調(diào)劑密度高于僅將所述第一圖像定影到所述特定介質(zhì)時的所述第一圖像的色調(diào)劑密度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的圖像形成設(shè)備,其中,所述第一色調(diào)劑是無色的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的圖像形成設(shè)備,其中,所述第一色調(diào)劑是白色的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像形成設(shè)備,所述圖像形成設(shè)備將包括不同于所述第一色調(diào)劑且不含有金屬顏料的第三色調(diào)劑的圖像轉(zhuǎn)印并定影到介質(zhì),
其中,在30℃至50℃的溫度范圍內(nèi)測量的所述第一色調(diào)劑的低溫存儲彈性模量小于在30℃至50℃的溫度范圍內(nèi)測量的所述第三色調(diào)劑的低溫存儲彈性模量。
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