[發(fā)明專利]一種傳感器數(shù)據(jù)的標(biāo)注裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610799121.6
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN107798010A
• 公開（公告）日: 2018-03-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 法樂第（北京）網(wǎng)絡(luò)科技有限公司
• 主分類號: G06F17/30
• 分類號: G06F17/30
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11319
• 代理人: 趙娟

1.一種傳感器數(shù)據(jù)的標(biāo)注裝置，其特征在于，包括：

數(shù)據(jù)采集模塊，用于調(diào)用二維傳感器和三維傳感器分別采集二維數(shù)據(jù)和三維數(shù)據(jù)；

數(shù)據(jù)標(biāo)注模塊，用于對所述二維數(shù)據(jù)和所述三維數(shù)據(jù)分別進(jìn)行標(biāo)注，獲得二維標(biāo)注數(shù)據(jù)和三維標(biāo)注數(shù)據(jù)；

數(shù)據(jù)校驗?zāi)K，用于根據(jù)所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)和所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)進(jìn)行相互校驗，獲得二維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)和/或三維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述數(shù)據(jù)采集模塊包括：

同步采集子模塊，用于分別調(diào)用二維傳感器和三維傳感器在同一時間采集二維數(shù)據(jù)和三維數(shù)據(jù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述數(shù)據(jù)標(biāo)注模塊包括：

第一投射子模塊，用于將所述二維數(shù)據(jù)和所述三維數(shù)據(jù)分別投射到同一坐標(biāo)系中，獲得二維坐標(biāo)數(shù)據(jù)和三維坐標(biāo)數(shù)據(jù)；

第一標(biāo)注子模塊，用于在所述同一坐標(biāo)系中，對所述二維坐標(biāo)數(shù)據(jù)和所述三維坐標(biāo)數(shù)據(jù)分別進(jìn)行標(biāo)注，獲得二維標(biāo)注數(shù)據(jù)和三維標(biāo)注數(shù)據(jù)；

或者，

第二標(biāo)注子模塊，用于對所述二維數(shù)據(jù)和所述三維數(shù)據(jù)分別進(jìn)行標(biāo)注，獲得二維原始標(biāo)注數(shù)據(jù)和三維原始標(biāo)注數(shù)據(jù)；

第二投射子模塊，用于將所述二維原始數(shù)據(jù)和所述三維原始數(shù)據(jù)分別投射到同一坐標(biāo)系中，獲得二維標(biāo)注數(shù)據(jù)和三維標(biāo)注數(shù)據(jù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述數(shù)據(jù)校驗?zāi)K包括：

二維數(shù)據(jù)投射子模塊，用于將所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)投射到所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)所屬的三維空間中，獲得三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)；

三維數(shù)據(jù)校驗子模塊，用于在所述三維空間中，基于所述三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)對所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)進(jìn)行校驗，獲得三維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)；

和/或，

三維數(shù)據(jù)投射子模塊，用于將所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)投射到所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)所屬的二維空間中，獲得二維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)；

二維數(shù)據(jù)校驗子模塊，用于在所述二維空間中，基于所述二維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)對所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)進(jìn)行校驗，獲得二維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，

所述二維數(shù)據(jù)投射子模塊包括：

第一目標(biāo)投射單元，用于在所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的二維標(biāo)注對象為預(yù)設(shè)的第一目標(biāo)對象時，將所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)投射到所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)所屬的三維空間中，獲得三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)；

所述三維數(shù)據(jù)投射子模塊包括：

第二目標(biāo)投射單元，用于在所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的三維標(biāo)注對象為預(yù)設(shè)的第二目標(biāo)對象時，將所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)投射到所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)所屬的二維空間中，獲得三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，

所述三維數(shù)據(jù)校驗子模塊包括：

第一相似度計算單元，用于在所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的二維標(biāo)注對象與所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的三維標(biāo)注目標(biāo)為同一個對象時，計算所述三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)與所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的第一相似度；

第一相似度校驗單元，用于在所述第一相似度低于預(yù)設(shè)的第一相似度閾值時，基于所述三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)對所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)進(jìn)行校驗，獲得三維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)；

所述二維數(shù)據(jù)校驗子模塊包括：

第二相似度計算單元，用于在所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的三維標(biāo)注對象與所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的二維標(biāo)注對象為同一個對象時，計算所述二維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)與所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的第二相似度；

第二相似度校驗單元，用于在所述第二相似度低于預(yù)設(shè)的第二相似度閾值時，基于所述二維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)對所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)進(jìn)行校驗，獲得二維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，

所述三維數(shù)據(jù)校驗子模塊包括：

第一標(biāo)注數(shù)據(jù)生成子模塊，用于在所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的二維標(biāo)注對象與所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的三維標(biāo)注目標(biāo)為同一個對象時，采用所述三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)和所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)生成三維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)；

其中，所述三維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)的權(quán)重大于所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的權(quán)重；

所述二維數(shù)據(jù)校驗子模塊包括：

第二標(biāo)注數(shù)據(jù)生成子模塊，用于在所述三維標(biāo)注數(shù)據(jù)的三維標(biāo)注對象與所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的二維標(biāo)注對象為同一個對象時，采用所述二維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)和所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)生成二維目標(biāo)標(biāo)注數(shù)據(jù)；

其中，所述二維參考標(biāo)注數(shù)據(jù)的權(quán)重大于所述二維標(biāo)注數(shù)據(jù)的權(quán)重。