[發明專利]基于二氧化硅的pH敏感的熒光納米材料、其制備方法及其應用

有效

• 申請號: 201610798470.6
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN106398681B
• 公開（公告）日: 2020-01-17
• 發明（設計）人: 遲崇巍;王麗
• 申請（專利權）人: 北京數字精準醫療科技有限公司
• 主分類號: C09K11/02
• 分類號: C09K11/02;C09K11/06;C09B23/10;B82Y40/00;A61K49/00
• 代理公司: 11021 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 喻穎

1.一種基于二氧化硅的pH敏感的熒光納米材料，其特征在于：所述熒光納米材料的粒徑在30-200nm范圍之間；以及

所述熒光納米材料的內核為二氧化硅納米粒子，所述二氧化硅納米粒子的表面通過對pH敏感的化學鍵與熒光染料連接；所述對pH敏感的化學鍵選自亞胺鍵、馬來酸二甲酯鍵、腙鍵、肟鍵、酰腙鍵、縮醛/縮酮鍵、原酸酯鍵中的一種或多種；所述熒光染料選自熒光素類、羅丹明類、花青素類、碳菁類熒光染料中的一種或多種；所述熒光納米材料能夠在所述對pH敏感的化學鍵斷裂之后使所述熒光染料游離出來，從而顯示出強烈的熒光。

2.根據權利要求1所述的熒光納米材料，其特征在于，所述二氧化硅納米粒子的制備原材料選自正硅酸乙酯、氨基丙基三乙氧基硅烷、氨基丙基三甲氧基硅烷和聚乙二醇連接的硅烷中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的熒光納米材料，其特征在于，所述二氧化硅納米粒子的表面還通過EDC/NHS反應鍵合有靶分子，所述靶分子包括小分子以及抗體類靶分子。

4.根據權利要求3所述的熒光納米材料，其特征在于，當且僅當所述熒光納米材料達到靶組并進入細胞溶酶體或內涵體之后，對pH敏感的化學鍵才會發生斷裂發出強烈的熒光。

5.一種基于二氧化硅的pH敏感的熒光納米材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1，將乙醇、氨水、去離子水混合，在30℃條件下攪拌0.5～1h；

步驟2，迅速加入硅烷試劑，繼續劇烈機械攪拌15min～24h，反應結束后離心洗滌，將固體產物分散在乙醇中，由此得到二氧化硅納米粒子；

步驟3，將熒光染料分散在二甲基亞砜中，滴加到步驟2制備得到的二氧化硅納米粒子中，根據需要加入不同的催化劑進行反應0-24h，分離純化得最終產物；其中，所述最終產物的內核為二氧化硅納米粒子，所述二氧化硅納米粒子的表面通過對pH敏感的化學鍵與熒光染料連接，所述對pH敏感的化學鍵選自亞胺鍵、馬來酸二甲酯鍵、腙鍵、肟鍵、酰腙鍵、縮醛/縮酮鍵、原酸酯鍵中的一種或多種；所述熒光染料選自熒光素類、羅丹明類、花青素類、碳菁類熒光染料中的一種或多種；所述熒光納米材料能夠在所述對pH敏感的化學鍵斷裂之后使所述熒光染料游離出來，從而顯示出強烈的熒光。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，該制備方法還包括：

步驟4，將步驟3的最終產物分散到去離子水或pH為7.4的磷酸緩沖鹽溶液中，通過EDC/NHS反應將靶分子連接到所述最終產物的表面。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述靶分子包括小分子以及抗體類靶分子。

8.根據權利要求1-4任意一項所述的基于二氧化硅的pH敏感的熒光納米材料在制備活體熒光成像顯影劑中的應用。