[發明專利]一種污水處理廠分布式光伏系統

在審

• 申請號: 201610791437.0
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN107046395A
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: 潘旗;陳北洋;張博豐;陳鐵軍;張中亮;康瑞;曹露;楊毅;鄧曉曼
• 申請（專利權）人: 華電水務工程有限公司
• 主分類號: H02S20/10
• 分類號: H02S20/10
• 代理公司: 北京聯創佳為專利事務所(普通合伙)11362
• 代理人: 郭防

1.一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，污水處理廠內設有地下水池(4)和敞口水池(6)，連通地下水池(4)和敞口水池(6)的管路(5)均位于地表以下；分布式光伏系統包括光伏組件(7)，光伏組件(7)位于地下水池(4)的池頂和敞口水池(6)的周邊；光伏組件(7)包括組件基座(3)、組件支架(2)和光伏板(1)，組件支架(2)固定在組件基礎(3)上，光伏板(1)安裝在組件支架(2)上；組件基座(3)為鋼筋混凝土條形基礎。

2.根據權利要求1所述的一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，地下水池(4)的池頂為混凝土結構，池頂上方為回填土，組件基礎(3)位于回填土上。

3.根據權利要求2所述的一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，組件基礎(3)的底面高度低于回填土的標高。

4.根據權利要求2所述的一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，組件基礎(3)的底面高度等于回填土的標高。

5.根據權利要求3或4所述的一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，組件基礎(3)的底面為矩形，組件基礎(3)內添加有復合型防腐阻銹劑。

6.根據權利要求5所述的一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，組件支架(2)的表層具有鍍鋅層，鍍鋅層的厚度大于或者等于100μm。

7.根據權利要求6所述的一種污水處理廠分布式光伏系統，其特征在于，組件基礎(3)的底面面積大于或者等于1.5平米，組件基礎的保護層厚度大于或者等于40毫米。