[發(fā)明專利]一種金屬絲鍍錫方法及金屬絲鍍錫設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610790384.0 | 申請(qǐng)日： | 2016-08-31 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN106191733B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-05-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 高林;陳慶誼;年有權(quán);常鵬雄;常天福;楊磊;李濤濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 西安泰力松新材料股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23C2/08 | 分類(lèi)號(hào)： | C23C2/08;C23C2/38;C23C2/22;C23C2/02 |
| 代理公司： | 西安睿通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 61218 | 代理人： | 惠文軒 |
| 地址： | 710119 陜西省*** | 國(guó)省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 金屬絲 鍍錫 方法 設(shè)備 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理，例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過(guò)量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態(tài)覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設(shè)備
C23C2-02 .待鍍材料的預(yù)處理，例如為了在選定的表面區(qū)域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過(guò)量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調(diào)節(jié)
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態(tài)槽液上的覆蓋物
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- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)
