[發(fā)明專利]鎳銅合金薄板材料的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610773730.4
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN106282952B
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李錚;李魯
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇華力金屬材料有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 郭俊玲

1.一種鎳銅合金薄板材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)基板的清洗：選取厚度為0.15～0.2mm的純銅帶作基板，為了去除油漬，先用濃度為3.5～4.5％碳酸鈉堿液清洗10～15min，清洗時(shí)溫度為65～75℃；然后為了去除氧化皮在濃度為3.5～4.5％稀硫酸中清洗10～15min；再將基板先后放入丙酮溶液、乙醇溶液和去離子水中超聲25～35min，以提高基板表面活性，吹干待用；

(2)選取靶材：選取純Ni靶材或高鎳含量鎳銅60～70wt.％Ni合金靶材，待用；

(3)制備覆層薄板：將步驟(1)中清洗后的銅帶基板置于磁控濺射設(shè)備的基片臺上作為陽極，將步驟(2)中的Ni靶材或高鎳含量鎳銅60～70wt.％Ni合金靶材放入磁控濺射設(shè)備的靶材座上作為陰極，且調(diào)節(jié)靶材座與基片座的距離，使兩者之間的距離保持在20mm；啟動(dòng)機(jī)械泵，打開旁抽閥Ⅱ，對真空腔室抽真空；當(dāng)真空度達(dá)到1～8Pa時(shí)，關(guān)閉旁抽閥Ⅱ，打開旁抽閥Ⅰ，并啟動(dòng)分子泵，打開閘板閥，采用分子泵對真空腔室進(jìn)一步抽真空；當(dāng)分子泵加速后穩(wěn)定運(yùn)行直至真空度達(dá)到1～5×10^-3Pa；打開氬氣閥，通入氬氣，對基板進(jìn)行離子束清洗，清洗時(shí)間為3～5min；待磁控濺射設(shè)備的真空度達(dá)到4～8Pa時(shí)，調(diào)節(jié)磁控濺射沉積條件：預(yù)熱銅帶基板至300～500℃；放電電壓300V～400V、電流10～20A、沉積速率為0.5～1.5μm/min；沉積時(shí)間20～60min，在銅帶基板上制得一層薄膜層；依次關(guān)閉電流、放電電壓和氬氣閥，解除真空，關(guān)閉分子泵，開啟進(jìn)氣閥，通入空氣，并待銅帶基板冷卻至室溫后，取出銅帶基板；

(4)擴(kuò)散固溶：將步驟(3)所制得的鍍膜的銅帶基板在溫度為700～800℃時(shí)擴(kuò)散處理，擴(kuò)散時(shí)間15～40min，即得到斷面成分分布均勻的覆層鎳銅合金薄板材料；在步驟(3)中，通過將多個(gè)相同組份的純Ni或高鎳含量鎳銅合金靶材分別放在磁控濺射鍍膜機(jī)中對立安裝的多個(gè)靶位上，純銅帶從中間穿過，實(shí)現(xiàn)寬幅基板雙面同步快速連續(xù)鍍膜處理；在所述步驟(3)中，純銅帶基板表面沉積的含Ni薄膜的厚度為10～80μm。