[發明專利]透明導電性片及其制造方法有效
| 申請號： | 201610773400.5 | 申請日： | 2016-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN107545949B | 公開（公告）日： | 2020-08-21 |
| 發明（設計）人： | 西本智久;野村涼;土井秀輕 | 申請（專利權）人： | 麥克賽爾控股株式會社 |
| 主分類號： | H01B5/14 | 分類號： | H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 鐘晶;陳彥 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 透明 導電性 及其 制造 方法 | ||
1.一種透明導電性片，其是包含透明基材、以及形成于所述透明基材的主面上的透明導電性膜的透明導電性片，其特征在于，
所述透明導電性膜包含導電性高分子和疏水性樹脂，
所述疏水性樹脂形成多個塊狀物，
所述導電性高分子配置于所述塊狀物之間而三維地連結，
所述導電性高分子的一部分達到所述透明導電性膜的表面，
所述透明導電性膜中的所述導電性高分子與所述疏水性樹脂的體積比為1:99～70:30，
所述導電性高分子含量相對于所述透明導電性膜形成用涂布液中所含的全部固體成分的質量為0.7質量％以上且70.0質量％以下，
所述疏水性樹脂的含量相對于所述透明導電性膜形成用涂布液中所含的全部固體成分的質量為30.0質量％以上99.3質量％以下。
2.一種透明導電性片，其是包含透明基材、以及形成于所述透明基材的主面上的透明導電性膜的透明導電性片，其特征在于，
所述透明導電性膜包含導電性高分子和疏水性樹脂，
所述透明導電性膜的鉛筆硬度為B以上，
所述透明導電性膜的表面電阻值為50Ω/sq以上200Ω/sq以下，
所述透明導電性片的全光線透過率為85％以上，
所述透明導電性膜中的所述導電性高分子與所述疏水性樹脂的體積比為1:99～70:30，
所述導電性高分子含量相對于所述透明導電性膜形成用涂布液中所含的全部固體成分的質量為0.7質量％以上且70.0質量％以下，
所述疏水性樹脂的含量相對于所述透明導電性膜形成用涂布液中所含的全部固體成分的質量為30.0質量％以上99.3質量％以下。
3.根據權利要求1或2所述的透明導電性片，所述導電性高分子包含聚噻吩系化合物和聚苯乙烯磺酸。
4.根據權利要求1或2所述的透明導電性片，所述透明基材包含塑料、橡膠、玻璃或陶瓷。
5.一種透明導電性片的制造方法，其為權利要求1或2所述的透明導電性片的制造方法，其特征在于，包含如下工序：
制作包含導電性高分子、疏水性樹脂和溶劑的透明導電性膜形成用涂布液的工序；以及
將所述透明導電性膜形成用涂布液涂布在透明基材上并進行加熱，從而在所述透明基材上形成透明導電性膜的工序。
6.根據權利要求5所述的透明導電性片的制造方法，進一步包含如下工序：
制作包含所述導電性高分子、所述疏水性樹脂和所述溶劑的透明導電性膜形成用涂布液后，使用分散機對所述透明導電性膜形成用涂布液進行分散處理的工序。
7.根據權利要求5所述的透明導電性片的制造方法，所述透明導電性膜形成用涂布液進一步包含流平劑。
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