[發明專利]一種深紫外帶通濾光片及其制備方法

有效

• 申請號: 201610771577.1
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN107783218B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 湯兆勝
• 申請（專利權）人: 上海兆九光電技術有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B5/26
• 代理公司: 北京貴都專利代理事務所(普通合伙) 11649
• 代理人: 李新鋒

本發明公開了一種深紫外帶通濾光片結構，其中，包括基底以及通過電子束蒸發鍍膜法形成于基底上的第一薄膜堆、第二薄膜堆；第一薄膜堆包括依次交替鍍制的數個HfO₂薄膜層與數個SiO₂薄膜層；第二薄膜堆包括依次交替鍍制的數個Al₂O₃薄膜層與數個SiO₂薄膜層；第二薄膜堆設于第一薄膜堆頂部。本發明提供的一種深紫外帶通濾光片利用多次反射方法將具有高反射率的深紫外波段有效提取出來，而對具有低反射率的可見區和近紅外波段進行有效的抑制。濾光片結構包括2片或2片以上的反射平板組成，入射光束經過2次或2次以上反射后輸出。相比傳統的紫外濾光片，本發明的濾光片具有紫外波段的透過率高，截止范圍寬以及截止深度深等優點。

技術領域

本發明涉及濾光片的鍍制工藝，具體涉及一種深紫外帶通濾光片及其制備方法。

背景技術

在200納米-350納米這一波段通常被稱為深紫外波段，這一波段的光被廣泛應用于凈水廠、醫院、工廠無塵車間的空氣殺菌、處理甲醛、熒光激發、日盲探測、紫外光譜儀、氣體探測等領域。但是現有的技術中想要獲得純凈的深紫外波段的能量并非易事，尤其涉及到300納米以下，甚至在200納米附近的波段，因為自然界在這一波段透明的材料非常有限，但深紫外波段所需要的領域很廣泛并且有必要，所以研究出能夠實現獲得純凈的深紫外波段的能量是非常有必要的。現有技術中存在一種途徑獲得深紫外波段的方法是采用金屬鋁和介質混合型膜層組合并通過誘導的方法來實現200納米-280納米附近的帶通特性，但這種誘導型的濾光片由于含有金屬膜，金屬膜對光的吸收比較嚴重，所以在通帶的透過率很低，一般在30％以下。如果要獲得通帶以外0.01％以下的截止深度時，透過率會更低，只能達到10％左右。這對于有能量大小要求又需要良好的抗干擾的應用場合無法滿足。另一種途徑是通過全介質的鍍膜對深紫外波段實現高透，對可見光以下到深紫外交界的區域實現截止。這種方法對深紫外區的透過率是有極大的提升，但截止范圍非常有限，最多只能截止到可見光區，而且鍍膜的難度是異常的高，沒有太多的應用價值。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種深紫外帶通濾光片，能夠通過入射光束多次反射的方法將具有高反射率的深紫外波段有效提取出來，而對具有低反射率的可見區和近紅外波段進行有效的抑制，同時濾光片結構包括2片或2片以上的反射平板組成，光線經過2次或2次以上反射后輸出，從而獲取高透過率的深紫外波段的能量，用以解決現有技術導致的缺陷。為此，本發明還提供該深紫外帶通濾光片的制備方法。

為解決上述技術問題本發明提供以下的技術方案：一種深紫外帶通濾光片，其中，包括基底以及通過電子束蒸發鍍膜法形成于所述基底上的第一薄膜堆、第二薄膜堆；

所述第一薄膜堆包括依次交替鍍制的數個HfO₂薄膜層與數個SiO₂薄膜層；

所述第二薄膜堆包括依次交替鍍制的數個Al₂O₃薄膜層與數個SiO₂薄膜層；

所述第二薄膜堆設于所述第一薄膜堆頂部。

上述的一種深紫外帶通濾光片，其中，所述基底為玻璃基底。

上述的一種深紫外帶通濾光片，其中，所述第一薄膜堆包括依次通過電子束蒸發鍍膜法交替鍍制的數個HfO₂薄膜層與數個SiO₂薄膜層；所述第二薄膜堆包括依次通過電子束蒸發鍍膜法交替鍍制的數個Al₂O₃薄膜層與數個SiO₂薄膜層。

上述的一種深紫外帶通濾光片，其中，所述第一薄膜堆包括依次通過電子束蒸發鍍膜法交替鍍制的等數量HfO₂薄膜層與SiO₂薄膜層；所述第二薄膜堆包括依次通過電子束蒸發鍍膜法交替鍍制的等數量Al₂O₃薄膜層與SiO₂薄膜層。