[發(fā)明專利]通過使用振蕩的供給壓力將還原劑注射到動力系統(tǒng)的廢氣中的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610756330.2
• 申請日: 2016-08-29
• 公開（公告）號: CN106555644B
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 喬希·C·施密特;斯科特·A·蔡斯
• 申請（專利權(quán)）人: 迪爾公司
• 主分類號: F01N3/20
• 分類號: F01N3/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 汪洋

1.一種用于將還原劑注射到動力系統(tǒng)的廢氣中的方法，該方法包括下述步驟：

以指定的流量注射還原劑；

計(jì)算還原劑的基準(zhǔn)供給壓力；

基于基準(zhǔn)供給壓力計(jì)算較高供給壓力，所述較高供給壓力大于基準(zhǔn)供給壓力；

基于基準(zhǔn)供給壓力計(jì)算較低供給壓力，所述較低供給壓力小于基準(zhǔn)供給壓力；

使還原劑供給壓力在所述較高供給壓力與所述較低供給壓力之間振蕩；以及

在空間速度降低時(shí)，增大所述較高供給壓力與所述基準(zhǔn)供給壓力之間的差值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，注射還原劑的步驟包括對供給壓力的振蕩進(jìn)行補(bǔ)償以維持正被注射的還原劑的流量恒定。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括基于動力系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)物理狀態(tài)計(jì)算所述指定的流量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括基于動力系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)物理狀態(tài)計(jì)算較高供給壓力和較低供給壓力。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括基于廢氣溫度計(jì)算較高供給壓力和較低供給壓力。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括基于空間速度計(jì)算較高供給壓力和較低供給壓力。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，使還原劑供給壓力在較高供給壓力與較低供給壓力之間振蕩的步驟包括使還原劑供給壓力在用于還原劑單次注射的較高供給壓力與用于接下來的還原劑單次注射的較低供給壓力之間振蕩。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，注射和振蕩同時(shí)發(fā)生。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基準(zhǔn)供給壓力與較低供給壓力之間的差值的量值明顯大于較高供給壓力與基準(zhǔn)供給壓力之間的差值的量值。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在空間速度降低時(shí)，增大基準(zhǔn)供給壓力與較低供給壓力之間的差值。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在空間速度增大時(shí)，減小較高供給壓力與基準(zhǔn)供給壓力之間的差值。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：在空間速度增大時(shí)，減小基準(zhǔn)供給壓力與較低供給壓力之間的差值。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在廢氣溫度降低時(shí)，增大較高供給壓力與基準(zhǔn)供給壓力之間的差值。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在廢氣溫度降低時(shí)，增大基準(zhǔn)供給壓力與較低供給壓力之間的差值。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在廢氣溫度升高時(shí)，減小較高供給壓力與基準(zhǔn)供給壓力之間的差值。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在廢氣溫度升高時(shí)，減小基準(zhǔn)供給壓力與較低供給壓力之間的差值。

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

計(jì)算用于以較高供給壓力進(jìn)行注射的第一時(shí)間段；以及

計(jì)算用于以較低供給壓力進(jìn)行注射的第二時(shí)間段。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，還包括：

在廢氣溫度升高時(shí)，減小第一時(shí)間段和第二時(shí)間段；以及

在廢氣溫度降低時(shí)，增大第一時(shí)間段和第二時(shí)間段。

19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，還包括：

在空間速度增大時(shí)，減小第一時(shí)間段和第二時(shí)間段；以及

在空間速度減小時(shí)，增大第一時(shí)間段和第二時(shí)間段。