[發(fā)明專利]一種真空溫場測量裝置及測量方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610749816.3 | 申請日： | 2016-08-29 |
| 公開（公告）號： | CN106352998B | 公開（公告）日： | 2019-07-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 余新平;張寧;卓勝 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京四方創(chuàng)能光電科技有限公司;北京四方繼保自動化股份有限公司 |
| 主分類號： | G01K7/04 | 分類號： | G01K7/04 |
| 代理公司： | 北京智繪未來專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11689 | 代理人： | 張紅蓮 |
| 地址： | 100085 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空 測量 裝置 測量方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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