[發明專利]用以在蒸鍍機臺提升基板與光罩間的對位精度的對位方法有效
| 申請號: | 201610742772.1 | 申請日: | 2016-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN107723657B | 公開(公告)日: | 2020-01-07 |
| 發明(設計)人: | 陳文山;張致盛 | 申請(專利權)人: | 盟立自動化股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/54 |
| 代理公司: | 44223 深圳新創友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用以 機臺 提升 光罩間 對位 精度 方法 | ||
1.一種用以在一蒸鍍機臺提升一基板與一光罩間的對位精度的對位方法,所述蒸鍍機臺具有一處理單元、一第一影像捕獲設備、一第二影像捕獲設備、一第三影像捕獲設備以及一第四影像捕獲設備,所述第一影像捕獲設備、所述第二影像捕獲設備、所述第三影像捕獲設備以及所述第四影像捕獲設備耦接所述處理單元,所述光罩具有對應所述第一影像捕獲設備的一第一光罩記號、對應所述第二影像捕獲設備的一第二光罩記號、對應所述第三影像捕獲設備的一第三光罩記號以及對應所述第四影像捕獲設備的一第四光罩記號,所述基板具有對應所述第一影像捕獲設備的一第一基板記號、對應所述第二影像捕獲設備的一第二基板記號、對應所述第三影像捕獲設備的一第三基板記號以及對應所述第四影像捕獲設備的一第四基板記號,其特征在于,所述對位方法包含:
所述第一影像捕獲設備對所述第一光罩記號擷取一第一光罩影像;
所述處理單元由所述第一光罩影像中擷取一第一光罩區域影像,其中所述第一光罩區域影像具有對應所述第一光罩記號的一第一光罩記號影像;
所述處理單元在所述第一光罩記號影像的一周緣擷取多個第一光罩邊界抽取范圍;
所述處理單元對各第一光罩邊界抽取范圍擷取復數列第一光罩邊界抽取影像列,且各第一光罩邊界抽取影像列具有多個第一光罩像素;
所述處理單元將所述多個第一光罩像素轉換為多個第一光罩強度值,其中各第一光罩強度值為對應的所述第一光罩像素的一第一光罩像素位置的函數;
所述處理單元根據所述多個第一光罩強度值得出通過各第一光罩強度值的一第一光罩曲線方程式;
所述處理單元將所述第一光罩曲線方程式作二次微分,以得出所述第一光罩曲線方程式的一反曲點,并將所述第一光罩曲線方程式的所述反曲點定義為對應的所述第一光罩邊界抽取影像列的一邊界點;
所述處理單元依據各第一光罩邊界抽取影像列的所述邊界點計算所述第一光罩記號的一第一光罩記號中心;
所述第二影像捕獲設備、所述第三影像捕獲設備以及所述第四影像捕獲設備分別對所述第二光罩記號、所述第三光罩記號以及所述第四光罩記號擷取一第二光罩影像、一第三光罩影像以及一第四光罩影像;
所述處理單元依據所述第二光罩影像、所述第三光罩影像以及所述第四光罩影像分別計算所述第二光罩記號的一第二光罩記號中心、所述第三光罩記號的一第三光罩記號中心以及所述第四光罩記號的一第四光罩記號中心;
所述處理單元連接所述第一光罩記號中心與所述第二光罩記號中心形成一第一光罩線段且連接所述第三光罩記號中心與所述第四光罩記號中心形成一第二光罩線段;
所述處理單元計算所述第一光罩線段與所述第二光罩線段的一交點并依據所述第一光罩線段與所述第二光罩線段的所述交點定義對應所述光罩的一光罩中心;
所述第一影像捕獲設備、所述第二影像捕獲設備、所述第三影像捕獲設備以及所述第四影像捕獲設備分別對所述第一基板記號、所述第二基板記號、所述第三基板記號以及所述第四基板記號擷取一第一基板影像、一第二基板影像、一第三基板影像以及一第四基板影像;
所述處理單元依據所述第一基板影像、所述第二基板影像、所述第三基板影像以及所述第四基板影像分別計算所述第一基板記號的一第一基板記號中心、所述第二基板記號的一第二基板記號中心、所述第三基板記號的一第三基板記號中心以及所述第四基板記號的一第四基板記號中心;
所述處理單元連接所述第一基板記號中心與所述第二基板記號中心形成一第一基板線段且連接所述第三基板記號中心與所述第四基板記號中心形成一第二基板線段;
所述處理單元計算所述第一基板線段與所述第二基板線段的一交點并依據所述第一基板線段與所述第二基板線段的所述交點定義對應所述基板的一基板中心;以及
當所述處理單元判斷所述光罩中心與所述基板中心沿一第一方向的一投影距離小于一第一距離精確值、所述光罩中心與所述基板中心沿垂直于所述第一方向的一第二方向的一投影距離小于一第二距離精確值、所述第一光罩線段與所述第一基板線段所夾的一第一角度與一第一預定角度的差小于一第一角度精確值以及所述第二光罩線段與所述第二基板線段所夾的一第二角度與一第二預定角度的差是否小于一第二角度精確值時,所述處理單元判斷所述光罩與所述基板彼此對位。
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