[發(fā)明專利]一種光罩檢查機(jī)及其檢查方法有效

申請(qǐng)?zhí)枺?/td>	201610742586.8	申請(qǐng)日：	2016-08-26
公開(kāi)（公告）號(hào)：	CN106338884B	公開(kāi)（公告）日：	2020-01-17
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	張賀	申請(qǐng)（專利權(quán)）人：	武漢華星光電技術(shù)有限公司
主分類號(hào)：	G03F1/84	分類號(hào)：	G03F1/84;G01N21/94
代理公司：	44304 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司	代理人：	孫偉峰
地址：	430070 湖北省武漢市***	國(guó)省代碼：	湖北;42
權(quán)利要求書：	查看更多	說(shuō)明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	一種檢查及其方法
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專利分類

G 物理

G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過(guò)電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記；其制備

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專利文獻(xiàn)下載

說(shuō)明：

1、專利原文基于中國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利說(shuō)明書；

2、支持發(fā)明專利、實(shí)用新型專利、外觀設(shè)計(jì)專利（升級(jí)中）；

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