[發明專利]二氧化鈦/石墨烯/分子印跡復合材料及其制備方法和應用有效
| 申請號： | 201610741646.4 | 申請日： | 2016-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN106362805B | 公開（公告）日： | 2018-11-13 |
| 發明（設計）人： | 王漫漫;賴萃;曾光明;黃丹蓮;張辰;王榮忠;許飄;程敏;黃超;秦蕾;萬佳 | 申請（專利權）人： | 湖南大學 |
| 主分類號： | B01J31/38 | 分類號： | B01J31/38;C02F1/30;C02F1/72;C02F101/34 |
| 代理公司： | 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 趙洪;黃藝平 |
| 地址： | 410082 湖南省長沙*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 石墨 分子 印跡 復合材料 及其 制備 方法 應用 | ||
【說明書】：
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