[發明專利]具有增強的能量范圍的柱后過濾器

有效

• 申請號: 201610729771.3
• 申請日: 2016-08-26
• 公開（公告）號: CN106653537B
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發明（設計）人: A.亨斯特拉;P.C.蒂伊梅杰
• 申請（專利權）人: FEI公司
• 主分類號: H01J37/26
• 分類號: H01J37/26;H01J37/28
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 申屠偉進;張濤

1.一種操作透射電子顯微鏡或掃描透射電子顯微鏡中的柱后過濾器PCF的方法，PCF（200）裝備成操作在第一模式中，所述第一模式即其中形成電子能量損失譜EELS頻譜的所謂EELS模式，所述EELS頻譜示出能量范圍，或者PCF裝備成操作在第二模式中，所述第二模式即其中形成能量過濾的透射電子顯微鏡EFTEM圖像的所謂EFTEM模式，并且PCF包括以下光學平面：

· 入射平面（204），

· 其中在EELS模式中形成EELS頻譜并且在EFTEM模式中形成EFTEM圖像的圖像平面（206），

· 在入射平面和圖像平面之間的狹縫平面（208），其中在EFTEM模式中形成能量散射焦點，

PCF包括布置在光軸（202）周圍的以下光學元件：

· 在入射平面與狹縫平面之間的能量散射元件（M），能量散射元件將射入的電子射束散射在能量散射射束中，

· 在能量散射元件與狹縫平面之間的一個或多個狹縫前四極（Q2、Q3），

· 在狹縫平面與圖像平面之間的眾多狹縫后四極（Q4、Q5、Q6、Q7），

用于校正像差的眾多多極，以及

· 在EFTEM模式中被插入狹縫平面中的能量選擇性狹縫（S），

在入射平面與狹縫平面之間的光學元件在EFTEM模式中在狹縫平面中形成能量散射焦點；并且在能量散射元件和狹縫平面之間的一個或多個狹縫前四極在EFTEM模式中放大由能量散射元件所引起的能量散射，

所述方法的特征在于，

在EELS模式中，在能量散射元件和狹縫平面之間的一個或多個狹縫前四極不放大由能量散射元件所引起的能量散射。

2.根據權利要求1所述的方法，其中在EELS模式中沒有能量散射焦點形成在狹縫平面（208）上。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中像素化攝像機放置在圖像平面（206）處。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中狹縫平面（208）和圖像平面（206）之間的狹縫后四極的數目為至少四。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其中能量散射元件（M）是90°磁性棱鏡。

6.根據權利要求1或2所述的方法，其中至少一個四極（Q1）放置在入射平面（204）和散射元件（M）之間。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其中在最接近于圖像平面的四極（Q7）的位置處或者在最接近于圖像平面的四極（Q7）與圖像平面（206）之間定位偏轉器（D）以用于使EELS頻譜在圖像平面上偏轉。

8.根據權利要求1或2所述的方法，其中在EELS模式中狹縫后四極（Q4、Q5、Q6、Q7）分成第一組相鄰四極和第二組相鄰四極，第一組中的每一個四極充當其中發生能量散射的平面中的正透鏡，并且第二組中的每一個四極充當其中發生能量散射的平面中的負透鏡。

9.根據權利要求1或2所述的方法，其中在EELS模式中狹縫后四極中的兩個均利用其它狹縫后四極中的任何狹縫后四極至少三倍的激發而激發。