[發(fā)明專利]含鉬金屬膜的蝕刻液組合物及利用其的顯示裝置用陣列基板的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610718266.9
• 申請(qǐng)日: 2016-08-24
• 公開（公告）號(hào): CN107287593B
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金鎮(zhèn)成;金煉卓;梁圭亨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東友精細(xì)化工有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/14
• 分類號(hào): C23F1/14;H01L21/77
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶;陳彥

本發(fā)明提供一種含鉬金屬膜的蝕刻液組合物及利用其的顯示裝置用陣列基板的制造方法，所述含鉬金屬膜的蝕刻液組合物以一定含量包含過氧化氫、氟化合物、唑系化合物、羥胺衍生物、和水。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及含鉬(Mo)金屬膜的蝕刻液組合物及利用其的顯示裝置用陣列基板的制造方法。

背景技術(shù)

隨著真正步入信息化時(shí)代，處理及顯示大量信息的顯示器領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了快速發(fā)展，得益于此，各種各樣的平板顯示器得到開發(fā)并受到關(guān)注。

作為這樣的平板顯示裝置的例子，可舉出液晶顯示裝置(Liquid CrystalDisplay device：LCD)、等離子體顯示裝置(Plasma Display Panel device：PDP)、場(chǎng)發(fā)射顯示裝置(Field Emission Display device：FED)、有機(jī)發(fā)光元件(Organic LightEmitting Diodes：OLED)等。作為一例，液晶顯示裝置因如下特性而受到關(guān)注：提供由卓越的分辨率形成的鮮明的影像，耗電少，可較薄地制造顯示器畫面。

TFT-LCD等顯示裝置的像素電極中使用鉬合金膜及金屬氧化物膜的單層膜、或鉬合金膜與金屬氧化物膜的多層膜等。上述像素電極經(jīng)由如下一系列光刻(lithography)工序而完成：一般通過濺射等方法層疊于基板上，并在其上均勻地涂布光致抗蝕劑。之后，通過刻有圖案的掩模照射光，通過顯影形成期望的圖案的光致抗蝕劑。接著，通過干式或濕式蝕刻將圖案轉(zhuǎn)印到位于光致抗蝕劑下部的金屬膜，然后通過剝離工序?qū)]有必要的光致抗蝕劑去除。

在用相同的蝕刻液對(duì)上述鉬合金膜和金屬氧化物膜實(shí)施蝕刻時(shí)，能夠簡(jiǎn)化制造工序，但一般而言鉬合金膜存在因耐化學(xué)性優(yōu)異而不易進(jìn)行濕式蝕刻的問題。此外，根據(jù)處理張數(shù)的蝕刻性能差異大，因此存在使用壽命短、工藝費(fèi)用提高、成本上升的問題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：韓國(guó)公開專利第10-2014-0042121號(hào)

發(fā)明內(nèi)容

所要解決的課題

本發(fā)明是為了解決上述以往技術(shù)問題而提出的，

其目的在于提供蝕刻鉬或鉬合金的單層膜、或者包含上述單層膜和金屬氧化物膜的多層膜時(shí)，隨處理張數(shù)的側(cè)蝕(side etch)變化量小，使用壽命優(yōu)異的蝕刻液組合物。

此外，本發(fā)明的目的在于提供使用上述蝕刻液組合物的顯示裝置用陣列基板的制造方法。

解決課題的方法

本發(fā)明提供一種含鉬金屬膜的蝕刻液組合物，其特征在于，相對(duì)于組合物總重量，包含(A)過氧化氫5～30重量％、(B)氟化合物0.1～2重量％、(C)唑系化合物0.1～1重量％、(D)羥胺衍生物0.1～5重量％、和(E)余量的水。

此外，本發(fā)明提供顯示裝置用陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：

a)在基板上形成柵極配線的步驟；

b)在包含上述柵極配線的基板上形成柵極絕緣層的步驟；

c)在上述柵極絕緣層上形成氧化物半導(dǎo)體層的步驟；

d)在上述氧化物半導(dǎo)體層上形成源電極和漏電極的步驟；及

e)形成與上述漏電極連接的像素電極的步驟，

上述e)步驟包括在基板上形成含鉬(Mo)金屬膜，并且用本發(fā)明的含鉬金屬膜的蝕刻液組合物進(jìn)行蝕刻而形成像素電極的步驟。

發(fā)明效果