[發(fā)明專利]一種光學(xué)平板檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610710555.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-08-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107764831B | 公開(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何品將 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州海康機(jī)器人技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88;G01N21/95 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 馬敬;項(xiàng)京 |
| 地址: | 310052 浙江省杭州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光學(xué) 平板 檢測(cè) 裝置 | ||
1.一種光學(xué)平板檢測(cè)裝置,其特征在于,包括:中空橢圓柱形狀的反射鏡、光源和線陣相機(jī);
所述反射鏡的內(nèi)表面為反射面,其設(shè)置有兩對(duì)狹縫,每對(duì)狹縫的中心連接面均經(jīng)過所述反射鏡的第一焦線;其中,第一對(duì)狹縫用于放置待測(cè)光學(xué)平板,使所述待測(cè)光學(xué)平板經(jīng)過所述第一焦線;
所述光源設(shè)置于所述反射鏡的第二焦線處,所述光源外設(shè)置有濾光器件,所述濾光器件與所述光源形狀相配合,環(huán)繞所述光源,所述濾光器件內(nèi)側(cè)鍍有非均勻透過率的薄膜,以使得所述第一焦線處的光線均勻;
所述線陣相機(jī)設(shè)置于第二對(duì)狹縫中的第一狹縫外,所述線陣相機(jī)的鏡頭對(duì)準(zhǔn)所述第一焦線對(duì)所述待測(cè)光學(xué)平板進(jìn)行拍攝,所述第一對(duì)狹縫的中心連接面與第二對(duì)狹縫的中心連接面垂直。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一狹縫與所述光源在所述待測(cè)光學(xué)平板的同一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述線陣相機(jī)的線陣方向與所述第一焦線方向平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于,所述線陣相機(jī)的光軸方向與所述第一焦線垂直。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,還包括:一個(gè)雜光吸收元件;
所述雜光吸收元件包裹所述線陣相機(jī),用于吸收所述第一狹縫處存在的所述光源之外的雜光;或,
所述雜光吸收元件設(shè)置于所述第二對(duì)狹縫中的第二狹縫外,用于吸收所述第二狹縫處存在的所述光源之外的雜光。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,還包括:兩個(gè)雜光吸收元件;
其中一個(gè)雜光吸收元件包裹所述線陣相機(jī),用于吸收所述第一狹縫處存在的所述光源之外的雜光;
另一個(gè)雜光吸收元件設(shè)置于所述第二對(duì)狹縫中的第二狹縫外,用于吸收所述第二狹縫處存在的所述光源之外的雜光。
7.一種光學(xué)平板檢測(cè)裝置,其特征在于,包括:中空橢圓柱形狀的反射鏡、光源和線陣相機(jī);
所述反射鏡的內(nèi)表面為反射面,其設(shè)置有至少兩對(duì)狹縫,每對(duì)狹縫的中心連接面均經(jīng)過所述反射鏡的第一焦線;其中,第一對(duì)狹縫用于放置待測(cè)光學(xué)平板,使所述待測(cè)光學(xué)平板經(jīng)過所述第一焦線;
所述光源設(shè)置于所述反射鏡的第二焦線處;
所述線陣相機(jī)設(shè)置于第二對(duì)狹縫中的第一狹縫外,所述線陣相機(jī)的鏡頭對(duì)準(zhǔn)所述第一焦線對(duì)所述待測(cè)光學(xué)平板進(jìn)行拍攝;
所述反射鏡還設(shè)置有第五狹縫;所述第五狹縫與所述光源在所述待測(cè)光學(xué)平板的同一側(cè);
所述第五狹縫的中心線與所述第一焦線的連接面形成第一連接面;
所述第二對(duì)狹縫的中心連接面與所述第一對(duì)狹縫的中心連接面形成為第一夾角;
所述第一連接面與所述第一對(duì)狹縫的中心連接面形成為第二夾角;
所述第一夾角與所述第二夾角角度相等。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述第一狹縫與所述光源在所述待測(cè)光學(xué)平板的同一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述反射鏡還設(shè)置有第六狹縫,所述第六狹縫與所述光源在所述待測(cè)光學(xué)平板的不同側(cè);
所述第五狹縫的中心線與所述第六狹縫的中心線形成的連接面經(jīng)過所述第一焦線。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述線陣相機(jī)的線陣方向與所述第一焦線方向平行。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其特征在于,所述線陣相機(jī)的光軸方向與所述第一焦線垂直。
12.根據(jù)權(quán)利要求7-11任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,還包括:一個(gè)雜光吸收元件;
所述雜光吸收元件包裹所述線陣相機(jī),用于吸收所述第一狹縫處存在的所述光源之外的雜光;或,
所述雜光吸收元件設(shè)置于所述第二對(duì)狹縫中的第二狹縫外,用于吸收所述第二狹縫處存在的所述光源之外的雜光。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
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