[發明專利]一種磁控濺射裝置及磁控濺射方法有效
| 申請號： | 201610708664.2 | 申請日： | 2016-08-23 |
| 公開（公告）號： | CN106222621B | 公開（公告）日： | 2019-05-21 |
| 發明（設計）人： | 閆宗楷;黃楷;向勇;李響;彭志 | 申請（專利權）人： | 電子科技大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 成都玖和知識產權代理事務所(普通合伙) 51238 | 代理人： | 黎祖琴 |
| 地址： | 611731 四川省*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 裝置 方法 | ||
【說明書】：
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