[發明專利]確定水平井頁巖氣藏地層參數的方法和系統

有效

• 申請號: 201610705715.6
• 申請日: 2016-08-23
• 公開（公告）號: CN106326545B
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發明（設計）人: 盧德唐;鄭德溫;李道倫;董大忠;查文舒;方朝合;賈智淳;陳建軍;田偉;陳曉熙;葛稚新;劉人和;曾博
• 申請（專利權）人: 中國石油天然氣股份有限公司;中國科學技術大學
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;徐煥

1.一種確定水平井頁巖氣藏地層參數的方法，其特征在于，包括：

設定水平井頁巖氣藏的初始地層參數；

根據所述初始地層參數進行模擬計算，得到所述頁巖氣藏的井底壓力，并根據所述井底壓力，繪制井底壓力理論曲線、井底壓力降落理論曲線和井底壓力導數理論曲線；

根據所述井底壓力理論曲線、所述井底壓力降落理論曲線、所述井底壓力導數理論曲線、井底壓力實測曲線、井底壓力降落實測曲線和井底壓力導數實測曲線，通過擬合，得到擬合結果；

如果所述擬合結果滿足預設精度要求，則將所述初始地層參數確定為所述頁巖氣藏的實際地層參數；

如果所述擬合結果不滿足預設精度要求，則根據理論曲線的擬直線段對所述初始地層參數進行一次或多次校正操作，直到基于校正后的初始地層參數得到的擬合結果滿足所述預設精度要求，并將校正后的初始地層參數確定為所述頁巖氣藏的實際地層參數；

其中，根據所述初始地層參數進行模擬計算，得到所述頁巖氣藏的井底壓力，并根據所述井底壓力，繪制井底壓力理論曲線、井底壓力降落理論曲線和井底壓力導數理論曲線，包括：

獲取所述頁巖氣藏的初始條件參數和所述頁巖氣藏的井筒參數；

將所述頁巖氣藏的初始條件參數、所述頁巖氣藏的井筒參數和所述頁巖氣藏的初始地層參數作為所述頁巖氣藏的參數集合；

建立所述頁巖氣藏的流動模型；

確定所述頁巖氣藏的井筒類型、生產方式和生產條件；

根據所述參數集合，利用所述流動模型、所述井筒類型、所述生產方式和所述生產條件進行模擬計算，得到所述頁巖氣藏的井底壓力；

根據所述井底壓力，繪制得到所述井底壓力理論曲線、所述井底壓力降落理論曲線和所述井底壓力導數理論曲線。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，建立所述頁巖氣藏的流動模型，包括：

根據視滲透率公式和達西定律對所述頁巖氣藏的初始流動模型進行修正，將修正后的頁巖氣藏的初始流動模型作為所述頁巖氣藏的第一修正模型；

通過建立單組分氣體吸附公式，對所述頁巖氣藏的第一修正模型進行調整，得到所述頁巖氣藏的第二修正模型；

根據質量守恒原理，對所述頁巖氣藏的第二修正模型進行調整，將調整后得到的所述頁巖氣藏的第二修正模型作為所述頁巖氣藏的流動模型。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述井底壓力理論曲線、所述井底壓力降落理論曲線、所述井底壓力導數理論曲線、井底壓力實測曲線、井底壓力降落實測曲線和井底壓力導數實測曲線，通過擬合，得到擬合結果，包括：

根據所述井底壓力理論曲線、所述井底壓力降落理論曲線和所述井底壓力導數理論曲線，獲取理論壓力差和理論壓力導數；

根據所述理論壓力差和所述理論壓力導數，繪制理論壓力差和理論壓力導數的雙對數圖；

根據所述井底壓力實測曲線、所述井底壓力降落實測曲線和所述井底壓力導數實測曲線，獲取實測壓力差和實測壓力導數；

根據所述實測壓力差和所述實測壓力導數，繪制實測壓力差和實測壓力導數的雙對數圖；

將所述理論壓力差和理論壓力導數的雙對數圖和所述實測壓力差和實測壓力導數的雙對數圖進行擬合，得到所述擬合結果。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據理論曲線的擬直線段對所述初始地層參數進行一次或多次校正操作，包括：

根據所述理論曲線的擬直線段調整所述初始地層參數，得到校正后的初始地層參數；

根據所述校正后的初始地層參數，通過模擬計算，得到所述頁巖氣藏的校正后的井底壓力，并繪制校正后的井底壓力理論曲線、校正后的井底壓力降落理論曲線和校正后的井底壓力導數理論曲線；

根據所述井底壓力理論曲線、所述井底壓力降落理論曲線、所述井底壓力導數理論曲線、所述井底壓力實測曲線、所述井底壓力降落實測曲線和所述井底壓力導數實測曲線，通過擬合，得到擬合結果。