[發明專利]一種可成像涂層、熱敏陰圖平版印刷版及其制版方法有效
| 申請號： | 201610696312.X | 申請日： | 2016-08-19 |
| 公開（公告）號： | CN106313870B | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發明（設計）人： | 陶烴;翁銀巧;應作挺;黃瑩;高邈;徐能平;劉崇雙 | 申請（專利權）人： | 浙江康爾達新材料股份有限公司 |
| 主分類號： | B41C1/10 | 分類號： | B41C1/10;C09D4/02;C09D4/00;C09D4/06;C09D7/63;C09D7/65 |
| 代理公司： | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人： | 李靜 |
| 地址： | 325013 *** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 可成像涂層 制版 印刷版前體 陰圖平版印刷版 未曝光區域 顯影工序 底基 熱敏 可自由基聚合化合物 輻射吸收性化合物 自由基引發劑 圖案化曝光 顯影促進劑 離機顯影 曝光區域 親水表面 印刷性能 在機顯影 親水層 印刷版 粘結劑 質量份 制備 靈活 覆蓋 賦予 | ||
【說明書】：
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