[發明專利]硬絲和超細纖維配合使用防水吸濕功能面料

在審

• 申請號: 201610690393.2
• 申請日: 2016-08-20
• 公開（公告）號: CN107756953A
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發明（設計）人: 鐘俊杰
• 申請（專利權）人: 鐘俊杰
• 主分類號: B32B5/02
• 分類號: B32B5/02;B32B5/26;B32B3/24;B32B3/12;B32B3/30;B32B33/00;D04B1/00;D04B21/00;D03D13/00;D03D15/02;D03D15/00
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技術領域

本發明涉及一種防水吸濕功能面料。屬于服裝加工技術領域。

背景技術

面料就是用來制作服裝的材料。作為服裝三要素之一，面料不僅可以詮釋服裝的風格和特性，而且直接左右著服裝的色彩、造型的表現效果。 現有的面料為了提高透氣性，往往防水性較差，而且浸水洗滌后速干效果較差，因此有必要改進。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是針對上述現有技術提供一種防水吸濕功能面料，防水性能好，且能起到導濕快干性能。

本發明解決上述問題所采用的技術方案為：一種硬絲和超細纖維配合使用防水吸濕功能面料，主要包括采用化學纖維制成的里層，防水層和采用天然纖維制成的表層，所述里層利用集圈和成圈線圈的配合，形成一個個的小柱子，表面為光滑的凸面，里面形成弓起的凹面，凸面部分與身體接觸，凹面部分與防水層交織在一起，所述的防水層上設有透氣孔，所述的防水層和表層之間設有防水透氣膜，在所述防水透氣膜與表層之間設置有速干層，所述速干層為蜂窩結構，在蜂窩結構的側面開設有排水孔，所述的防水層朝向表層一側，以及朝向里層一側分別設有傾斜設置的導流槽一和豎直設置的導流槽二，所述表層為斜紋組織結構，其經向短浮長或緯向短浮長依次階梯式排列，在織物表面構成連續的斜紋，斜紋的傾角為30°—90°。所述里層背面設置有襯里織物層，該襯里織物層包括織物本體，織物本體包括若干個由硬絲面紗與底紗穿插交織成的第一方格和若干個由超細纖維絲面紗與底紗穿插交織成的第二方格，第一方格與第二方格在織物本體的橫向和縱向上均相間設置。

與現有技術相比，本發明的優點在于：

本發明利用防水透氣膜具有很好的防水性，同時結合防水層上設有的透氣孔使得具有很好的透氣性，而且由于防水透氣膜和表層之間還設有蜂窩結構的速干層，使得面料浸水后能快干，同時表層的斜紋結構使得面料更加柔軟，制成的服裝與身體接觸的部分只是一個個的小柱子,打破了傳統服裝與身體的面接觸而形成了點接觸，使身體與服裝之間留有一定的空間，有利于身體熱量的散失。

本發明采用硬絲和超細纖維配合使用，利用超細纖維的吸水性高、去污能力強，結合硬絲，不僅對頑固的臟漬也能清理干凈，對地面的摩擦力也減少，應用于機器人上時，機器人能靈活工作。采用方格的樣式，立體感強，對允許清潔到各種細小的縫隙。同時該織物本體為經編機織制品，織物耐用，使用壽命長。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖。

圖2為本發明中速干層的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖實施例對本發明作進一步詳細描述。

如圖1，2所示，本實施例中的一種硬絲和超細纖維配合使用防水吸濕功能面料，主要包括采用化學纖維制成的里層1，防水層2和采用天然纖維制成的表層3，所述里層1利用集圈和成圈線圈的配合，形成一個個的小柱子8，表面為光滑的凸面，里面形成弓起的凹面，凸面部分與身體接觸，凹面部分與防水層2交織在一起，所述的防水層2上設有透氣孔4，所述的防水層2和表層3之間設有防水透氣膜5，利用防水透氣膜5具有很好的防水性，同時結合防水層2上設有的透氣孔4使得具有很好的透氣性，在所述防水透氣膜5與表層3之間設置有速干層6，所述速干層6為蜂窩結構，在蜂窩結構的側面開設有排水孔7，所述的防水層2朝向表層3一側，以及朝向里層1一側分別設有傾斜設置的導流槽一2.1和豎直設置的導流槽二2.2，導流槽一2.1和導流槽二2.2分別用于外側防水和內側防水，當外側滲水時，利用傾斜設置的導流槽一使滲水能沿著導流槽一充分與速干層6接觸，通過速干層6的蜂窩結構更好的吸附滲水，同時部分滲水能沿著導流槽一2.1往下流，而進入透氣孔4的滲水能通過導流槽二2.2直接往下流，避免內部滲水。所述表層3為斜紋組織結構，其經向短浮長或緯向短浮長依次階梯式排列，在織物表面構成連續的斜紋3.1，斜紋3.1的傾角為30°—90°，斜紋組織較平紋交織點少，有浮長，其織物較平紋柔軟厚實，光澤也較好。

所述里層背面設置有襯里織物層，該襯里織物層包括織物本體，織物本體包括若干個由硬絲面紗與底紗穿插交織成的第一方格和若干個由超細纖維絲面紗與底紗穿插交織成的第二方格，第一方格與第二方格在織物本體的橫向和縱向上均相間設置。

除上述實施例外，本發明還包括有其他實施方式，凡采用等同變換或者等效替換方式形成的技術方案，均應落入本發明權利要求的保護范圍之內。