[發(fā)明專利]鍍錫溶液凈化裝備及其凈化方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201610686978.7
• 申請日: 2016-08-18
• 公開（公告）號: CN107761140A
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫悅慶;周閩;蘭劍;陳成增
• 申請（專利權(quán)）人: 寶山鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: C25D3/30
• 分類號: C25D3/30;C02F9/04;C02F103/16;C02F101/20
• 代理公司: 上海集信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司31254
• 代理人: 周成

1.一種鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，包括：鍍液槽、鍍液過濾器、沉淀罐、壓濾機和反應(yīng)罐，所述鍍液槽、鍍液過濾器、反應(yīng)罐、沉淀罐依次連通形成一條閉合的水流回路，所述壓濾機與沉淀罐相連通，并與鍍液槽、鍍液過濾器、反應(yīng)罐形成另一條閉合的水流回路。

2.如權(quán)利要求1所述的鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，所述反應(yīng)罐還與一除雜劑制備罐相連通。

3.如權(quán)利要求1或2所述的鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，所述反應(yīng)罐包括反應(yīng)罐體、除雜劑分配器、攪拌槳、鍍液入口和鍍液出口，所述除雜劑分配器設(shè)置于反應(yīng)罐體內(nèi)部，所述攪拌槳設(shè)置于除雜劑分配器的下方，所述鍍液入口和鍍液出口分別設(shè)置于反應(yīng)罐體的下部和上部。

4.如權(quán)利要求3所述的鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，所述攪拌槳攪拌槳為平槳結(jié)構(gòu)，攪拌槳的寬度W為罐體直徑D1的(1/3～1/2)。

5.如權(quán)利要求1所述的鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，所述沉淀罐包括沉淀罐體、中心下降管、清液出口和污泥出口，所述沉淀罐體包括直筒段和一體連接于所述直筒段的錐形段，所述中心下降管設(shè)置于沉淀罐體的直筒段口部，所述清液出口設(shè)置于直筒段側(cè)壁上部，所述污泥出口設(shè)置于錐形段的末端，且所述直筒段的直徑D2在數(shù)值上等于鍍錫溶液流量F1的(1/3～1/2)，直通段H的高度為D2的1.2～2.0倍。

6.如權(quán)利要求5所述的鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，所述中心下降管的直徑d在數(shù)值上等于鍍錫溶液流量F1的(1/50～1/100)，中心下降管的下端呈錐形，且中心下降管的管口直徑B為d的(3～5)倍。

7.如權(quán)利要求1所述的鍍錫溶液凈化裝備，其特征在于，所述壓濾機中具有尼龍過濾布，所述尼龍過濾布的目數(shù)為200目。

8.一種基于權(quán)利要求1～7中任意一項所述的鍍錫溶液凈化裝備的凈化方法，其特征在于，包括如下步驟：

將鍍錫溶液和70～80℃下的除雜劑通入反應(yīng)罐內(nèi)進行反應(yīng)后，將反應(yīng)液通入沉淀罐內(nèi)進行沉降；

將沉降后分離出的上層清液通過溢流的方式轉(zhuǎn)移回鍍液槽內(nèi)，將沉淀打入壓濾機中進行壓濾，分離出清液和泥餅，將所述清液轉(zhuǎn)移回鍍液槽內(nèi)，將所述泥餅作為固體廢棄物排放；

其中，所述除雜劑為含有乙醇的氫氧化鋇水溶液。

9.如權(quán)利要求8所述的凈化方法，其特征在于，所述中心下降管插入反應(yīng)液液面的深度h為(1/3～3/5)H。