[發明專利]用于測量高度圖并將高度圖合并為合成高度圖的方法

有效

• 申請號: 201610685793.4
• 申請日: 2016-08-18
• 公開（公告）號: CN106468534B
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發明（設計）人: J·奎達克爾斯;A·T·祖德偉格
• 申請（專利權）人: 株式會社三豐
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G01B11/24
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種用于利用光學輪廓儀來測量基板的表面上的多個視場的高度圖并將所測量到的高度圖合并為合成高度圖的方法，所述方法包括：

使所述光學輪廓儀相對于所述表面沿著路線在視場之間移動；

利用所述光學輪廓儀沿著所述路線測量所述表面上的視場的高度圖；以及

合并所測量的視場的多個高度圖以產生所述表面的合成高度圖，

其中，所述路線包括具有第一方向的分量和第二方向的分量的方向，所述第二方向的分量與所述第一方向的分量大致垂直，

其中，使所述光學輪廓儀相對于所述表面沿著路線在視場之間移動包括：在測量視場的高度圖期間，在所述第一方向的分量和所述第二方向的分量這兩者上前后移動至少兩次，其中，所述路線被配置為在合并多個高度圖期間使得針對所述光學輪廓儀的高度漂移所引起的效應的靈敏度最小化。

2.一種用于利用光學輪廓儀來測量基板的表面上的多個視場的高度圖并將所測量到的高度圖合并為合成高度圖的方法，所述方法包括：

使所述光學輪廓儀相對于所述表面沿著路線在視場之間移動；

利用所述光學輪廓儀沿著所述路線測量所述表面上的視場的高度圖；以及

合并所測量的視場的多個高度圖以產生所述表面的合成高度圖，

其中，所述路線包括具有第一方向的分量和第二方向的分量的方向，所述第二方向的分量與所述第一方向的分量大致垂直，

其中，使所述光學輪廓儀相對于所述表面沿著路線在視場之間移動包括：在測量視場的高度圖期間，在所述第一方向的分量上前后移動至少兩個視場，以及在所述第二方向的分量上前后移動至少兩個視場，其中，所述路線被配置為在合并多個高度圖期間使得針對所述光學輪廓儀的高度漂移所引起的效應的靈敏度最小化。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述路線被配置為大致以隨機次序來測量視場。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述路線具有螺旋形狀或近似螺旋的形狀。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：

順次測量和/或再測量位于大致靠近所述表面的邊緣的多個視場的高度圖，

其中，合并多個高度圖包括：之后針對整體定向和傾斜，使用再測量的視場來校正所述合成高度圖。

6.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述路線包括多次穿過所述表面上的多個視場的中心。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：在所測量的視場和要測量的下一個視場之間留出一個、兩個、三個或甚至更多個視場的狀態下，從該所測量的視場向該要測量的下一個視場移動。

8.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：使用算法來確定所述路線。

9.根據權利要求1或2所述的方法，其中，在利用所述光學輪廓儀測量所述表面上的視場的高度圖期間，能夠維持鄰接的視場之間的重疊或連接的區域，以及

合并多個高度圖包括：使用重疊的區域或個體視場高度信息來確定并校正高度差以產生所述表面的所述合成高度圖。

10.根據權利要求1或2所述的方法，其中，所述光學輪廓儀是白光干涉儀即WLI、移相干涉儀即PSI、色點傳感器即CPS、聚焦點恢復/聚焦形狀恢復傳感器即PFF/SFF、共焦顯微鏡、結構化照明顯微鏡即SIM或激光干涉儀顯微鏡。