[發(fā)明專利]一種基于嵌入式的面曝光3D打印機多屏異顯方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610676928.0
• 申請日: 2016-08-17
• 公開（公告）號: CN106273485B
• 公開（公告）日: 2018-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳號;邱志惠;黃祺;王智;郭池;戴晨雨
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州秉創(chuàng)科技有限公司
• 主分類號: B29C64/386
• 分類號: B29C64/386;B33Y50/00
• 代理公司: 蘇州睿昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32277
• 代理人: 伍見

本發(fā)明公開了一種基于嵌入式的面曝光3D打印機多屏異顯方法，包括以下步驟：步驟1)準備開發(fā)板；步驟2)讀取文件；步驟3)繪制曝光掩膜；步驟4)多屏異顯輸出。本發(fā)明制造成本降低、系統(tǒng)功耗低、設(shè)備發(fā)熱低，并且大大降低存儲空占用。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及3D打印技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于嵌入式的面曝光3D打印機多屏異顯方法。

背景技術(shù)

3D打印技術(shù)(又稱快速成型)是20世紀80年代后期出現(xiàn)的一種全新制造技術(shù)，它借助計算機、激光、精密傳動和數(shù)控等現(xiàn)代化手段，通過原材料的層層堆疊實現(xiàn)工件的快速制造。這種新興的制造技術(shù)將計算機輔助設(shè)計和計算機輔助制造集于一體，首先將事先繪制的三維實體模型按照某一厚度分層，再通過運動控制系統(tǒng)和光學(xué)系統(tǒng)相互配合完成原材料的固化堆疊工作。其成型實體不受外形限制，具有成型速度快，單件成本低、材料利用率高等優(yōu)點。能夠精確、直接的將處于虛擬模型階段的工件轉(zhuǎn)化為實體，從而更好的完成產(chǎn)品的相關(guān)分析驗證，大大提高工件生產(chǎn)效率。

面曝光3D打印是一種依托光敏樹脂聚合反應(yīng)實現(xiàn)材料固化成型的技術(shù)。基于面曝光工藝的3D打印設(shè)備直接利用常規(guī)DLP(Digital Light Processing)投影儀產(chǎn)生的可見光以平面形式照射樹脂材料，通過控制投影儀光強與照射時間實現(xiàn)樹脂固化，相比其他快速成型技術(shù)操控更加簡便，成型速度更快，能夠有效提高打印精度，獲得更高的表面質(zhì)量，同時又能夠顯著降低打印設(shè)備系統(tǒng)成本。

當(dāng)前面曝光設(shè)備中為了實現(xiàn)多屏異顯(多個屏幕同時顯示不同內(nèi)容)，普遍使用裝有windows系統(tǒng)的筆記本電腦或工業(yè)控制電腦運行3D打印機控制軟件，二者均存在無法克服的成本高昂、功耗大、設(shè)備發(fā)熱等問題。

國內(nèi)現(xiàn)有基于嵌入式系統(tǒng)的面曝光DLP設(shè)備無法讀取SLC文件，只能逐次讀取單張BMP圖片文件，存儲空間耗費巨大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問題，提供一種基于嵌入式的面曝光3D打印機多屏異顯方法，本發(fā)明制造成本降低、系統(tǒng)功耗低、設(shè)備發(fā)熱低，并且大大降低存儲空占用。

為實現(xiàn)上述技術(shù)目的，達到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方法實現(xiàn)：

一種基于嵌入式的面曝光3D打印機多屏異顯方法，包括以下步驟：

步驟1)準備開發(fā)板，對該開發(fā)板進行Linux系統(tǒng)配置；

步驟2)讀取文件，將SLC文件輸入到開發(fā)板中，并對該SLC文件的層數(shù)以及每一層的輪廓點數(shù)據(jù)進行讀取；

步驟3)繪制曝光掩膜，對每一層的輪廓點數(shù)據(jù)進行內(nèi)輪廓和外輪廓辨別，當(dāng)存在內(nèi)輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)時，將內(nèi)輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)連接成內(nèi)輪廓線，將外輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)連接成外輪廓線，接著對內(nèi)輪廓線與外輪廓線之間進行實體填充，得到空心曝光掩膜并保存至內(nèi)存等待調(diào)用，當(dāng)不存在內(nèi)輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)時，將外輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)連接成外輪廓線，接著對外輪廓線內(nèi)部進行實體填充，得到實心曝光掩膜并保存至內(nèi)存等待調(diào)用；

步驟4)多屏異顯，將內(nèi)存中的空心曝光掩膜和實心曝光掩膜進行輸出。

進一步的，所述步驟2中，讀取SLC文件的層數(shù)后設(shè)置進度條，當(dāng)步驟3中每完成一層曝光掩膜的繪制，該進度條計數(shù)加一。

進一步的，所述步驟3中，當(dāng)不存在內(nèi)輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)時，在外輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)內(nèi)設(shè)定一個極坐標原點，將極坐標原點與外輪廓的輪廓點進行連線，記錄相鄰兩個輪廓點之間的向量夾角，得到∠1、∠2、∠3、…、∠N，∠1+∠2+∠3+…+∠N＝2π，然后將相鄰兩個輪廓點之間進行連線，得到外輪廓線；當(dāng)存在內(nèi)輪廓的輪廓點數(shù)據(jù)時，繼續(xù)以該極坐標原點與內(nèi)輪廓的輪廓點進行連線，記錄相鄰兩個輪廓點之間的向量夾角，得到∠A1、∠A2、∠A3、…、∠AN，∠A+∠A2+∠A3+…+∠AN＝-2π，然后將相鄰兩個輪廓點之間進行連線，得到內(nèi)輪廓線。

本發(fā)明的有益效果是: