[發(fā)明專利]裝飾圈及終端有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610676760.3 | 申請日: | 2016-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN106095197B | 公開(公告)日: | 2018-02-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳壽寬;曾贊堅 | 申請(專利權)人: | 廣東歐珀移動通信有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙)11201 | 代理人: | 黃瓊 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝飾 終端 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及終端領域,尤其涉及一種裝飾圈及終端。
背景技術
在相關技術中,某些手機包括指紋芯片封裝結構及裝飾圈,指紋芯片封裝結構設置在裝飾圈內以使得手機的外觀更加美觀。但是,指紋芯片封裝結構設置在裝飾圈內的位置難以確定,導致指紋芯片封裝結構設置到裝飾圈內時的裝配效率較低。
發(fā)明內容
本發(fā)明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此,本發(fā)明提供一種裝飾圈及一種終端。
本發(fā)明實施方式的裝飾圈包括裝飾環(huán)及支撐邊。支撐邊自裝飾環(huán)的內壁向內延伸。本發(fā)明實施方式的裝飾圈的支撐邊可以支撐并定位指紋芯片封裝結構,從而提高指紋芯片封裝結構與裝飾圈的裝配效率。
在某些實施方式中,所述支撐邊垂直于所述裝飾環(huán)的內壁。
在某些實施方式中,所述裝飾環(huán)包括與所述內壁連接的底面,所述支撐邊的下表面與所述底面平齊。
在某些實施方式中,所述裝飾環(huán)包括與所述內壁連接的頂壁,所述頂壁包括朝向所述裝飾圈內的導引斜面。
在某些實施方式中,所述支撐邊形成有避讓孔。
在某些實施方式中,所述避讓孔呈圓角矩形,所述避讓孔的側壁沿所述避讓孔的軸向方向形成有避讓槽,所述避讓槽與所述避讓孔連通。
在某些實施方式中,所述裝飾圈包括自所述裝飾環(huán)的外壁向外延伸的法蘭。
在某些實施方式中,所述法蘭垂直于所述外壁。
在某些實施方式中,所述法蘭包括第一凸部及連接所述第一凸部的第二凸部,所述第一凸部包括第一部及第二部,所述第二部連接所述第一部及所述第二凸部,所述第二部凸設于所述第一部及所述第二凸部。
在某些實施方式中,所述第一凸部的頂面與所述第二凸部的頂面平齊,所述第一部的厚度大于所述第二凸部的厚度。
在某些實施方式中,所述裝飾環(huán)呈長圓形,所述裝飾環(huán)的外壁包括平行的兩個直線段及連接所述兩個直線段的兩個彎曲段,所述第一部設置在所述其中一個所述直線段上,所述第二部設置在所述兩個彎曲段上。
在某些實施方式中,所述第二部的形狀與所述彎曲段的形狀相配合。
本發(fā)明實施方式的終端包括以上任一實施方式所述的裝飾圈。
本發(fā)明實施方式的裝飾圈的支撐邊可以支撐并定位指紋芯片封裝結構,從而提高指紋芯片封裝結構與裝飾圈的裝配效率。
本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本發(fā)明的實踐了解到。
附圖說明
本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結合下面附圖對實施方式的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1是本發(fā)明實施方式的終端的平面示意圖;
圖2是本發(fā)明實施方式的輸入組件的剖面示意圖;
圖3是本發(fā)明實施方式的裝飾圈的立體示意圖;
圖4是本發(fā)明實施方式的裝飾圈的剖面示意圖;
圖5是本發(fā)明實施方式的裝飾圈的平面示意圖;
圖6是本發(fā)明實施方式的裝飾圈的立體分解示意圖;
圖7是本發(fā)明實施方式的裝飾圈的另一個立體分解示意圖;
圖8是本發(fā)明實施方式的指紋芯片封裝結構的立體示意圖;
圖9是本發(fā)明實施方式的指紋芯片封裝結構的剖面示意圖;
圖10是本發(fā)明實施方式的指紋芯片封裝結構的平面示意圖。
具體實施方式
下面詳細描述本發(fā)明的實施方式,所述實施方式的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施方式是示例性的,僅用于解釋本發(fā)明,而不能理解為對本發(fā)明的限制。
在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”、“順時針”、“逆時針”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外,術語“第一”、“第二”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個所述特征。在本發(fā)明的描述中,“多個”的含義是兩個或兩個以上,除非另有明確具體的限定。
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