[發明專利]去塊濾波邊界強度確定方法和裝置

有效

• 申請號: 201610664032.0
• 申請日: 2016-08-12
• 公開（公告）號: CN107734347B
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 桑耀
• 申請（專利權）人: 珠海市杰理科技股份有限公司
• 主分類號: H04N19/86
• 分類號: H04N19/86;H04N19/176
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 周清華

1.一種去塊濾波邊界強度確定方法，其特征在于，包括如下步驟：

根據當前待處理圖像中每相鄰兩個像素塊內的每一個像素點在所述當前待處理圖像內的位置坐標，計算得到塊間紋理參數和塊內紋理參數；

根據計算得到的所述塊間紋理參數和所述塊內紋理參數分別獲取相應的塊間邊界偏移值和塊內邊界偏移值；

其中，所述塊間邊界偏移值與所述塊間紋理參數相對應，所述塊內邊界偏移值與所述塊內紋理參數相對應；

根據所述塊間邊界偏移值和所述塊內邊界偏移值以及預設的量化參數分別獲取相應的塊間邊界門限和塊內邊界門限；

其中，所述塊間邊界門限和所述塊內邊界門限表征所述濾波邊界的去塊濾波邊界強度。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據當前待處理圖像中每相鄰兩個像素塊內的每一個像素點在所述當前待處理圖像內的位置坐標，計算得到塊間紋理參數和塊內紋理參數，包括如下步驟：

獲取相鄰兩個像素塊內的每一個像素點坐標(i，j)，根據所述像素點坐標(i，j)確定所述像素點與所述相鄰兩個像素塊對應的濾波邊界之間的位置關系；

根據所述位置關系，確定相應的第一局部紋理評估因子La(i,j)、第一修正系數δa(i,j)、第二局部紋理評估因子Lb(i,j)和第二修正系數δb(i,j)；

將所述第一局部紋理評估因子La(i,j)和第一修正系數δa(i,j)代入公式：計算得到所述塊間紋理參數，并將所述第二局部紋理評估因子Lb(i,j)和第二修正系數δb(i,j)代入公式：計算得到所述塊內紋理參數；

其中，A為所述塊間紋理參數，B為所述塊內紋理參數。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據所述像素點坐標(i，j)確定所述像素點與所述相鄰兩個像素塊對應的濾波邊界之間的位置關系，包括如下步驟：

對所述像素點坐標中的橫向坐標值i和縱向坐標值j均進行對4的取模運算，得到相應的橫向取模運算結果和縱向取模運算結果；

對所述橫向取模運算結果和所述縱向取模運算結果進行判斷；

當所述橫向取模運算結果和所述縱向取模運算結果滿足第一預設條件：(i％4＝0∪i％4＝3)∩(j％4＝0∪j％4＝3)時，確定所述像素點位于所述濾波邊界的兩端；

當所述橫向取模運算結果和所述縱向取模運算結果滿足第二預設條件：(i％4＝1∪i％4＝2)∩(j％4＝1∪j％4＝2)時，確定所述像素點位于所述濾波邊界的中間。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述根據所述位置關系，確定相應的第一局部紋理評估因子La(i,j)、第一修正系數δa(i,j)、第二局部紋理評估因子Lb(i,j)和第二修正系數δb(i,j)，包括如下步驟：

當所述像素點位于所述濾波邊界的兩端時，所述第一局部紋理評估因子La(i,j)的取值為l(i,j)，所述第一修正系數δa(i,j)的取值為1，所述第二局部紋理評估因子Lb(i,j)的取值為0，所述第二修正系數δb(i,j)的取值為0；

當所述像素點位于所述濾波邊界的中間時，所述第一局部紋理評估因子La(i,j)的取值為0，所述第一修正系數δa(i,j)的取值為0，所述第二局部紋理評估因子Lb(i,j)的取值為l(i,j)，所述第二修正系數δb(i,j)的取值為1；

其中，l(i,j)＝|∑_m＝-1..1∑_n＝-1..1c(m+1,n+1)*y(i+m,j+n)|；

y(i,j)是圖像的亮度值，c(m，n)為拉普拉斯算子的系數。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據計算得到的所述塊間紋理參數和所述塊內紋理參數分別獲取相應的塊間邊界偏移值和塊內邊界偏移值，包括如下步驟：

根據計算得到的所述塊間紋理參數由預設的第一映射表中查找出相應的所述塊間邊界偏移值；其中，所述第一映射表中存儲有每一區間塊間邊界參數與塊間邊界偏移值之間的對應關系；

根據計算得到的所述塊內紋理參數由預設的第二映射表中查找出相應的所述塊內邊界偏移值；其中，所述第二映射表中存儲有每一區間的塊內邊界參數與所述塊內邊界偏移值之間的對應關系。