[發明專利]一種離子鈀活化劑在審
| 申請號: | 201610661920.7 | 申請日: | 2016-08-12 |
| 公開(公告)號: | CN107723689A | 公開(公告)日: | 2018-02-23 |
| 發明(設計)人: | 潘恒金 | 申請(專利權)人: | 惠州大亞灣金盛科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/30 | 分類號: | C23C18/30 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司11315 | 代理人: | 許志勇 |
| 地址: | 516083 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 離子 活化劑 | ||
技術領域
本發明屬于用于線路板通孔化學鍍銅的活性劑技術領域,尤其涉及一種離子鈀活性劑。
背景技術
化學鍍銅是電路板制造中的一種工藝,通常也叫沉或胡孔化,是一種自身催化性氧化還原反應。目前在化學鍍銅時所用的活化劑為膠體鈀,但膠體鈀作為活化劑,存在諸多缺點,如溶液穩定性差、容易對基材造成攻擊、容易在銅面形成殘留物等缺點,嚴重影響產品質量。因此開發一種優質的活化劑尤為重要。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種穩定性好、覆蓋性好且對基材無攻擊、在銅面無殘留的活化劑。
為了解決上述問題,本發明所提供的技術方案是:
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.15g-0.65g,氨基吡啶4-12g,聚乙二醇5-55g,氫氧化鈉5-25g,余量為H2O。
可選的,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.30g-0.50g,氨基吡啶5-10g,聚乙二醇5-50g,氫氧化鈉5-15g,余量為H2O。
可選的,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.15g-0.35g,氨基吡啶4-7g,聚乙二醇5-20g,氫氧化鈉5-10g,余量為H2O。
可選的,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.35g-0.55g,氨基吡啶7-10g,聚乙二醇20-45g,氫氧化鈉10-20g,余量為H2O。
可選的,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.55g-0.65g,氨基吡啶10-12g,聚乙二醇45-55g,氫氧化鈉20-25g,余量為H2O。
本發明的有益效果在于:溶液穩定性好。由于本體是溶液,在常溫下是穩定的,鈀離子不會沉淀。鈀離子在玻璃纖維和樹脂處覆蓋性完好,不對基材攻擊。在后續沉積銅層背光監測時,背光均為10級,沒有漏光點,從微切片上觀察,沉積層致密,基材完好。鈀離子在銅面的吸附率很低,在銅面無殘留,由于在堿性條件下,鈀離子和線路板表面銅層不發生化學置換反應,所以在銅表面沒有鈀金屬析出層。
具體實施方式
為了更清楚、完整說明本發明的內容,下面提供最優實施方式來說明本發明構思。當然,所提供的是實施例旨在說明本發明的構思,并不是本發明設計方案的全部,更不應該視為本發明設計內容的局限。在所提供的實施方式的啟示下,所作出的任何方案均屬于本發明的保護范圍。
實施例1
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.15g,氨基吡啶4g,聚乙二醇5g,氫氧化鈉5g,余量為H2O。
本實施例中,氯化鈀的作用是提供金屬離子鈀,氨基吡啶用于調整PH值,聚乙二醇用于濕潤線路板的孔壁,氫氧化鈉是金屬離子鈀的絡合劑,可以使得金屬鈀穩定地分散在溶液中,H2O為溶解劑。本發明所提供的其余實施例中,各組分的功能與本實施例中各組分的功能一致。
本實施例所提供的活性劑的制備方法為(以1升溶劑為例):取一個可以攪拌的藥水缸,加入H2O,H2O少于0.8L,依次按量加入氯化鈀、氨基吡啶、聚乙二醇、氫氧化鈉,攪拌均勻,再繼續加水至1L,攪拌均勻即可。其余實施例中活性劑的制備方法與本實施例提供的一致。
實施例2
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.65g,氨基吡啶12g,聚乙二醇55g,氫氧化鈉25g,余量為H2O。
實施例3
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.30g,氨基吡啶5g,聚乙二醇5g,氫氧化鈉5g,余量為H2O。
實施例4
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.50g,氨基吡啶10g,聚乙二醇50g,氫氧化鈉15g,余量為H2O。
實施例5
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.15g,氨基吡啶4g,聚乙二醇5g,氫氧化鈉5g,余量為H2O。
實施例6
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.35g,氨基吡啶7g,聚乙二醇20g,氫氧化鈉10g,余量為H2O。
實施例7
一種離子鈀活化劑,所述活化劑組分及含量為每升活化劑中氯化鈀0.55g,氨基吡啶10g,聚乙二醇45g,氫氧化鈉20g,余量為H2O。
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C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
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