[發(fā)明專利]用于發(fā)射斷層顯像定量的系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610651230.3 | 申請(qǐng)日： | 2016-06-01 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN106466188B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-03-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | S·安;R·M·曼杰什瓦;F·P·霍伊肯斯菲爾德特詹森;S·G·羅斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號(hào)： | A61B6/03 | 分類號(hào)： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 徐予紅;張懿 |
| 地址： | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 發(fā)射 斷層 顯像 定量 系統(tǒng) 方法 | ||
【說(shuō)明書】：
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